1) Si/Co multilayer thin films
Si/Co多层膜
1.
small-angle x-ray diffraction study on Si/Co multilayer thin films has been undertaken .
用小角X射线衍射方法对Si/Co多层膜进行了测试研究 ,应用衍射理论对测试中出现的周期数不多的强峰和其间的一系列次强峰进行了分析 ,在计算多层和单层膜厚度时 ,提出利用相邻两个衍射峰的角度之差来消除系统误差和定位误差的简便方法 ,使数据处理得到简化 。
2) Co/Si multilayer
Co/Si多层膜
3) Si/SiO2 multi-layer films
Si/SiO2多层膜
1.
Si/SiO2 multi-layer films are fabricated using the RF magnetron sputtering technique, and the I-V properties of the multi-layer films are analyzed.
用射频磁控溅射法制备了Si/SiO2多层膜,并对多层膜的I-V特性实验结果进行了拟合。
4) Mo/Si multilayer
Mo/Si多层膜
1.
The beam splitters,which are Mo/Si multilayer deposited o.
采用磁控溅射方法在有效面积为10 mm×10 mm、厚度为100 nm的Si3N4基底上镀制了Mo/Si多层膜,制成了多层膜分束镜。
5) Si/Ge multilayer
Si/Ge多层膜
1.
Photoluminescence of Si/Ge multilayer films deposited by ion-beam sputtering;
溅射Si/Ge多层膜及其发光誊性研究
2.
The Si/Ge multilayers have been prepared by ion beam sputtering technique.
本文采用离子束外延技术制备了一系列的Si/Ge多层膜结构,对样品进行X射线和拉曼散射实验表征。
6) Mo/Si multilayers
Mo/Si多层膜
1.
Mo/Si multilayers prepared with different sputtering power of Mo target;
用不同的Mo靶溅射功率制备Mo/Si多层膜
2.
A series of Mo/Si multilayers were prepared by magnetron sputtering,with top layers being Mo layer and Si layer respectively.
用磁控溅射法分别制备了以Mo膜层和Si膜层为顶层的Mo/Si多层膜系列,利用小角X射线衍射确定了各多层膜的周期厚度。
补充资料：全氟羧酸-磺酸多层阳离子交换膜
分子式：
CAS号：
性质：又称全氟羧酸-磺酸多层阳离子交换膜，需在膜的一面形成一羧酸膜层。其制法是将全氟磺酸膜片与全氟羧酸膜片加热层压而成，或在全氟磺酸膜的一面经化学处理，使—SO3H转换成—COOH基。这种离子膜一面为—SO3H基，另一面为—COOH，用聚四氟乙烯织物增强，在氯化钠电解制碱中的电流效率为95%左右。
CAS号：
性质：又称全氟羧酸-磺酸多层阳离子交换膜，需在膜的一面形成一羧酸膜层。其制法是将全氟磺酸膜片与全氟羧酸膜片加热层压而成，或在全氟磺酸膜的一面经化学处理，使—SO3H转换成—COOH基。这种离子膜一面为—SO3H基，另一面为—COOH，用聚四氟乙烯织物增强，在氯化钠电解制碱中的电流效率为95%左右。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条