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1)  BESOI
背面刻蚀与键合
2)  Back-etching
背面刻蚀
3)  surface etching
表面刻蚀
1.
The research results indicated that with the increase of treatment power ,treatment time and treatment pressure,the surface etching deepened and expanded from non crystalline region to crystalline region,the etching stripes became well-observed, and the surface roughness increased.
结果表明随处理功率增大、处理时间增长和处理压力增高,表面刻蚀随之加深,刻蚀由非晶区向晶区发展,刻蚀条纹渐趋明显,表面粗糙度增加。
4)  mesa etching
台面刻蚀
1.
The impact of mesa etching on the device characteristics of power SITH;
台面刻蚀对电力SITH器件特性的影响
5)  etched facet
刻蚀端面
6)  ecthing interface
刻蚀界面
补充资料:《三家医案合刻》
《三家医案合刻》 《三家医案合刻》   医案著作。三卷。清·吴金寿刊刻于1831年。本书汇萃苏州名医叶桂、薛雪、缪遵义三家医案,所选证治熨贴,议论中肯。本书收入《中国医学大成》中。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
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