1) Sn-Ge intermediate alloy
锡-锗中间合金
2) gold-germanium alloys
金锗合金
3) SiGe alloy
硅锗合金
1.
In this paper, a variety of low-dimensional quantum structures are formed on the SiGe alloy by the strong laser irradiation and the electrochemical etching with the weak laser irradiation assisted.
本文用强激光直接辐照和弱激光辐照辅助电化学刻蚀方法在硅锗合金薄膜上形成多种低维量子结构。
5) germanium-base alloy
锗基合金
6) aluminum-tin alloy
中锡低铅铝合金
补充资料：低锗锰铜合金
分子式：
CAS号：
性质： 含锗较低的锗锰铜合金。成分为锗0.5％～2％，锰8％～10％，其他20％，铜余量。电阻率35×10-8Ω·m。平均电阻温度系数±3×10-6℃-1(20℃)。平均对铜热电动势≤1.0μV/℃。密度8.6g/cm3。熔点920℃。抗拉强度392～441MPa。延伸率2％。
CAS号：
性质： 含锗较低的锗锰铜合金。成分为锗0.5％～2％，锰8％～10％，其他20％，铜余量。电阻率35×10-8Ω·m。平均电阻温度系数±3×10-6℃-1(20℃)。平均对铜热电动势≤1.0μV/℃。密度8.6g/cm3。熔点920℃。抗拉强度392～441MPa。延伸率2％。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条