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1)  InxGa1-xAs/GaAs
In_xGa_(1-x)As/GaAs
2)  In_xGa_(1-x)As/GaAs QD
In_xGa_(1-x)As/GaAs量子点(QD)
3)  Cu(In_xGa_(1-x))Se_2 thin films
Cu(In_xGa_(1-x))Se_2
4)  GaAs/AlxGa1-xAs
GaAs/Al_xGa_(1-x)As
5)  InxGa1-xN/GaN quantum dots
In_xGa_(1-x)N/GaN量子点
6)  Al_xGa_(1_x)As/GaAs quantum wire
Al_xGa_(1-x)As/GaAs量子线
补充资料:GaAs epitaxial wafer
分子式:
CAS号:

性质:在特定晶向[(100)或(100)偏向最近<110>2 ~5 的晶面]砷化镓衬底上外延生长的单晶薄层材料外延工艺有LPE、VPE、MOCVD、MBE、CBE、ALE等工业选择取决于器件结构等因素,一般LPE、VPE多用于商品化器件,如光探测器、霍尔器件等。MBE、CBE、ALE多用于最子阱超晶格材料。MOCVD两方面兼而有之。

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