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1)  Nano-machanical lithography
纳米机械刻蚀
1.
Nano-machanical lithography technique based atomic force microscope(AFM) is the important part of the scanning probe lithography(SPL),which has made a great progress.
基于原子力显微镜AFM(atomic force microscope)的纳米机械刻蚀加工是扫描探针刻蚀加工技术(scanning probe lithography,SPL)的一个重要组成,目前已取得较大进展。
2)  nanolithography
纳米刻蚀
1.
Applications of Scanning Probe Microscopy in Nanolithography on Alkanethiol Self-assembled Monolayers;
扫描探针显微术在巯醇自组装单分子膜纳米刻蚀中的应用
2.
The combination of scanning probe micronoscopy(SPM) nanolithography and selfassembly method has made it possible to fabricate not only planned functional nanostructures on solid substrate,but also the complex architectures with well controlled over a wide range of length scales and nanodevice.
本文在简单介绍扫描探针加工技术和分子自组装膜制备的基础上,总结了原子力显微镜纳米刻蚀和分子组装相结合的最新进展,并着重介绍了具有广泛应用前景和研究进展的构筑纳米刻蚀法和蘸笔水刻蚀法。
3)  Mechanical lithography
机械刻蚀
4)  nanosphere lithography
纳米球刻蚀
1.
Fabrication and optical properties of 2D ordered arrays of CdS nanocrystals by nanosphere lithography;
纳米球刻蚀法制备的二维有序的CdS纳米阵列及其光学性质的研究
2.
Large-area Co nanoparticle arrays and Co nano-granular films with core-shell strucutre are preparaed using Nanosphere Lithography.
本文利用纳米球刻蚀法制备了大面积的Co磁性纳米颗粒阵列,以及核壳结构的Co磁性纳米颗粒膜,SEM图显示它们具有较好的形貌,VSM分析显示了其磁学性质,发现在样品内形成单畴结构,Co磁性纳米颗粒阵列比Co磁性纳米颗粒膜的矫顽力有较大的提高,矩形比却有升有降,本文重点讨论了其中的影响因素。
5)  nano machine
纳米机械
1.
The phonon Green function of staff made with monatomic simple cubic crystal in nano machine and micro machine is deduced with Dyson equation in this article.
应用量子统计理论中的Dyson方程推导了具有简单立方单原子晶体结构的纳米机械和微机械中杆的声子格林函数 ,并以此为基础 ,对晶格振动进行量子化 ,为应用量子理论研究MEMS及其构件奠定了基础。
6)  Dip-pen nanolithography (DPN)
蘸笔纳米刻蚀技术
补充资料:看纺织印染中应用纳米材料和纳米技术

纺织印染中应用纳米材料和纳米技术时,除了要解决纳米材料的制备技术之外,重要的是要解决好纳米材料的应用技术,其中关键问题是使纳米粒子和纺织印染材料的基本成分(即聚合物材料)之间处于适当的结合状态。印染中,纳米粒子在聚合物基体中的分散和纳米粒子在聚合物表面的结合是主要的应用技术问题。  


    制备聚合物/无机纳米复合材料的直接分散法,适用于各种形态的纳米粒子。印染中纳米粒子的使用一般采用直接分散法。但是由于纳米粒子存在很大的界面自由能,粒子极易自发团聚,利用常规的共混方法不能消除无机纳米粒子与聚合物基体之间的高界面能差。因此,要将无机纳米粒子直接分散于有机基质中制备聚合物纳米复合材料,必须通过必要的化学预分散和物理机械分散打开纳米粒子团聚体,将其均匀分散到聚合物基体材料中并与基体材料有良好的亲和性。直接分散法可通过以下途径完成分散和复合过程:  


    高分子溶液(或乳液)共混:首先将聚合物基体溶解于适当的溶剂中制成溶液(或乳液),然后加入无机纳米粒子,利用超声波分散或其他方法将纳米粒子均匀分散在溶液(或乳液)中。有人将环氧树脂溶于丙酮后加入经偶联剂处理过的纳米TiO2,搅拌均匀,再加入 40wt%的聚酰胺后固化制得了环氧树脂/TiO2纳米复合材料。还有人将纳米SiO2粒子用硅烷偶联剂处理后,改性不饱和聚酯。  


    熔融共混:将纳米无机粒子与聚合物基体在密炼机、双螺杆等混炼机械上熔融共混。如将PMMA和纳米SiO2粒子熔融共混后,双螺杆造粒制得纳米复合材料。又如利用偶联剂超声作用下处理纳米载银无机抗菌剂粒子,分散制得PP/抗菌剂、PET/抗菌剂、PA/抗菌剂等复合树脂,然后经熔融纺丝工艺加工成抗菌纤维。研究表明,将经过表面处理的纳米抗菌剂粒子通过双螺杆挤出机熔融混炼,在聚合物中可以达到纳米尺度分散,获得了具有良好综合性能的纳米抗菌纤维,对大肠杆菌、金黄色葡萄球菌的抗菌率达到95%以上(美国AATCC-100标准)。  


    机械共混:将偶联剂稀释后与碳纳米管混合,再与超高分子量聚乙烯(UHMWPE)混合放入三头研磨机中研磨两小时以上。将研磨混合物放入模具,热压,制得功能型纳米复合材料。  


    聚合法:利用纳米SiO2粒子填充(Poly(HEMA))制备了纳米复合材料。纳米SiO2粒子首先被羟乙基甲基丙烯酸(HEMA)功能化,然后与HEMA单体在悬浮体系中聚合。还有利用SiO2胶体表面带酸性,加入碱性单体4-乙烯基吡咯进行自由基聚合制得包覆型纳米复合材料。

说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条