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1)  plasma ion implantation
离子浸没注入
1.
Objective:To analyze the modified surfaces of pure titanium by means of plasma ion implantation technique.
目的:通过等离子浸没注入对纯钛试样进行表面改性,分析改性后纯钛试样表面的成分。
2.
Objective:To improve the anticorrosion of the modified surfaces of pure titanium and Ti6Al4V by means of plasma ion implantation technique.
目的:通过等离子浸没注入对纯钛及钛合金试样进行表面改性,从而提高试样的耐腐蚀性能。
3.
Objective:To investigate the corrosion resistance property of the modified surfaces of pure titanium by means of plasma ion implantation technique.
目的:通过等离子浸没注入对纯钛试样进行表面改性,探讨其在不同浓度含氟溶液中的耐腐蚀性。
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2)  Plasma immersion ion implantation
等离子体浸没离子注入
1.
Surface modification process and mechanism of 9Cr18 bearing steel using nitrogen plasma immersion ion implantation;
9Cr18轴承钢氮等离子体浸没离子注入表面改性工艺及机理的研究
2.
Influence of pulse duration on deflecting electric field inner surface plasma immersion ion implantation;
脉冲宽度对偏转电场法内表面等离子体浸没离子注入的影响
3.
Development of plasma immersion ion implantation and surface strengthening technique;
等离子体浸没离子注入及表面强化工艺的进展
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3)  plasma immersion ion implantation(PIII)
等离子体浸没离子注入
1.
Plasma immersion ion implantation(PIII) for a planar target was simulated using 2D particle-in-cell(PIC) model.
采用二维元胞粒子模型(PIC),模拟了一个完整脉冲时段内,等离子体浸没离子注入平板靶的过程。
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4)  plasma immersion ion implantation & deposition (PIII&D)
等离子浸没式离子注入
5)  PⅢ
等离子体浸没注入技术
6)  N+ plasma ion implantation
氮等离子浸没注入
1.
Objective To study the effect of N+ ion sputtering and N+ plasma ion implantation on the microorganisms adhesion to the surface of Co-Cr alloy.
目的研究氮离子溅射和氮等离子浸没注入对钴铬合金表面微生物黏附附能力的影响。
2.
Objective:To study the influence of N+ ion sputtering and N+ plasma ion implantation on clinically used Ti on adhesion of bacteria.
目的:研究氮离子溅射和氮等离子浸没注入对纯钛表面细菌粘附能力的影响。
补充资料：离子注入（ionimplantation）
离子注入（ionimplantation）

用离子加速器将各种离子注入半导体材料，从而改变半导体材料的电学、光学或其他物理性质的半导体工艺技术，称为离子注入技术。自从20世纪70年代以来离子注入技术在半导体器件制备工艺中获得了广泛应用，是半导体器件工艺的最主要技术之一。

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参考词条