1) MW-ECR DC magnetron sputtering
微波电子回旋共振直流磁控溅射
2) ECR sputtering method
电子回旋共振微波等离子体溅射
3) DC magnetron co-sputtering
直流磁控共溅射
4) electron cyclotron resonance microwave discharge
电子回旋共振微波放电
5) MW ECR
微波电子回旋共振
1.
The deposition of a-Si∶H films was performed by using microwave electron cyclotron resonance (MW ECR) plasma with the assistance of tungsten filament.
通过红外透射光谱研究了在光诱导退火中退火条件对氢化非晶硅薄膜的结构和光电特性的影响,实验所用样品采用热丝辅助微波电子回旋共振化学气相沉积方法制备。
6) DC reactive magnetron co-sputtering with two targets
双靶直流磁控共溅射
1.
Cu-doped TiO2 thin films were prepared by DC reactive magnetron co-sputtering with two targets.
采用双靶直流磁控共溅射法制备了掺铜TiO2薄膜,通过控制Cu靶的溅射功率改变Cu的掺杂量,研究了掺铜对TiO2薄膜的结构、光吸收及光催化性能的影响。
补充资料：电子自旋共振(见电子回旋共振)
电子自旋共振(见电子回旋共振)
electron spin resonance
电子自旋共振eleetron spin resonanee见电子回旋共振。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条