1) Glass Kiln Temperature Control System
玻璃熔窑温度控制系统
3) tank,glass
池窑熔制的玻璃
4) glass furnace
玻璃熔窑
1.
Some critical questions of oxygen-firing in glass furnace;
玻璃熔窑富氧燃烧的几个关键问题
2.
Methods of improving thermal efficiency of the glass furnace regenerator;
提高玻璃熔窑蓄热室热效率的几项措施
3.
Application of PLC in glass furnace flame direction-changing operation;
PLC在玻璃熔窑火焰换向中的应用
5) glass tank
玻璃熔窑
1.
Current three-dimensional mathematical models for simulating flow and heat transfer processes in glass-melting furnaces are summarized,including combustion model, glass tank melt model, coupled model and various sub-models, and val.
数值模拟越来越广泛地应用到了玻璃熔窑的设计与优化中。
2.
This paper mainly focus on the heat transfer and flow in float glass tanks,and the effect of doghouse width on the velocity,temperature field and refining quality.
研究了浮法玻璃熔窑内传热与流动以及投料池宽度变化对熔窑内流场、温度场和玻璃熔制质量的影响 ,采用了 SIMPL EC算法计算了温度和速度场 ,计算了不同投料池宽度下的熔制因子分布和滞留时间微分分布。
3.
The change in structure of glass tank can lead to change in glass flow pattern.
通过与传统池深玻璃熔窑液流结构的比较，发现浅池结构玻璃熔窑的液流形态有所变化。
6) glass melting furnace
玻璃熔窑
1.
It analyzes the application and research of desulfation technology for glass melting furnace flue gas at home on the base of explaining the current desulfation technology, puts forward application foreground of CFBFGD and desulfation, denitrogenation technology.
通过对玻璃熔窑烟气污染物排放情况的分析,结合国务院颁布的《排污费征收管理条例》的实施,提出脱硫治理的必要性,在阐述目前烟气脱硫技术的基础上,对脱硫技术在国内玻璃熔窑烟气治理中的应用及研究现状进行分析,提出烟气循环流化床(CFB FGD)同时脱硫脱氮技术的应用前景。
2.
The mechanism and advantages of oxy-fuel combustion and the changes of working condition in glass melting furnace are introduced.
阐述了玻璃熔窑全氧燃烧技术的机理、优点以及窑内工作条件的变化,分析了全氧窑内大量碱蒸气和水蒸气的增加对胸墙、池壁、大碹等关键部位耐火材料的侵蚀及全氧熔窑耐火材料的选择,展望了国内外全氧玻璃熔窑耐火材料的发展方向。
3.
The glass melting furnace taking the heavy oil as the fuel pollutes the atmospheric environment seriously,from which the concentration of SO2 reaches generally about 1 500～3 600 mg/Nm3 and dust reaches 300～500 mg/Nm3.
以重油为燃料的玻璃熔窑所排放出二氧化硫浓度(SO2)浓度一般在1 500~3 600 mg/Nm3,烟尘浓度300~500 mg/Nm3,大气环境污染比较严重。
补充资料：温度控制系统
以温度作为被控制量的反馈控制系统。在化工、石油、冶金等生产过程的物理过程和化学反应中，温度往往是一个很重要的量，需要准确地加以控制。除了这些部门之外，温度控制系统还广泛应用于其他领域，是用途很广的一类工业控制系统。温度控制系统常用来保持温度恒定或者使温度按照某种规定的程序变化。
温度控制系统由被控对象、测量装置、调节器和执行机构等部分构成（图1）。被控对象是一个装置或一个过程，它的温度是被控制量。测量装置对被控温度进行测量，并将测量值与给定值比较，若存在偏差便由调节器对偏差信号进行处理，再输送给执行机构来增加或减少供给被控对象的热量，使被控温度调节到整定值。测量装置是温度控制系统的重要部件，包括温度传感器和相应的辅助部分，如放大、变换电路等。测量装置的精度直接影响温度控制系统的精度，因此在高精度温度控制系统中必须采用高精度的温度测量装置。温度控制系统的执行机构大多采用可控热交换器。根据调节器送来的校正后的偏差信号，调节流入热交换器的热载体（液体或气体）的流量，来改变供给（或吸收）被控对象的热量，以达到调节温度的目的。在一些简单的温度控制系统中，也常采用电加热器作为执行机构，对被控对象直接加热。通过调节电压（或电流）的大小可改变供出的热量。
不同的应用部门对温度控制系统品质有不同的要求，并选用不同类型的调节器。如果精度要求不高，可采用两位调节器,一般情况下多采用PID调节器。高精度温度控制系统则常采用串级控制。串级控制系统由主回路和副回路两个回路构成（图2），具有控制精度高、抗干扰能力强、响应快、动态偏差小等优点，常用于干扰强,且温度要求精确的生产过程,如化工生产中反应器的温度控制。
严格说，多数温度控制系统中被控对象在进行热交换时的温度变化过程，既是一个时间过程，也是沿空间的一个传播过程，需要用偏微分方程来描述各点温度变化的规律。因此温度控制系统本质上是一个分布参数系统。分布参数系统的分析和设计理论还很不成熟，而且往往过于复杂而难于在工程实际问题中应用。解决的途径有二：一是把温度控制系统作为时滞系统来考虑。时滞较大时采用时滞补偿调节，以保证系统的稳定性。具有时滞是多数温度控制系统的特点之一。另一途径是采用分散控制方式，把分布参数的被控过程在空间上分段化，每一段过程可作为集中参数系统来控制，构成空间上分布的多站控制系统。采用分散控制常可获得较好的控制精度。
参考书目
王永初：《自动调节系统工程设计》，机械工业出版社，北京，1983。
温度控制系统由被控对象、测量装置、调节器和执行机构等部分构成（图1）。被控对象是一个装置或一个过程，它的温度是被控制量。测量装置对被控温度进行测量，并将测量值与给定值比较，若存在偏差便由调节器对偏差信号进行处理，再输送给执行机构来增加或减少供给被控对象的热量，使被控温度调节到整定值。测量装置是温度控制系统的重要部件，包括温度传感器和相应的辅助部分，如放大、变换电路等。测量装置的精度直接影响温度控制系统的精度，因此在高精度温度控制系统中必须采用高精度的温度测量装置。温度控制系统的执行机构大多采用可控热交换器。根据调节器送来的校正后的偏差信号，调节流入热交换器的热载体（液体或气体）的流量，来改变供给（或吸收）被控对象的热量，以达到调节温度的目的。在一些简单的温度控制系统中，也常采用电加热器作为执行机构，对被控对象直接加热。通过调节电压（或电流）的大小可改变供出的热量。
不同的应用部门对温度控制系统品质有不同的要求，并选用不同类型的调节器。如果精度要求不高，可采用两位调节器,一般情况下多采用PID调节器。高精度温度控制系统则常采用串级控制。串级控制系统由主回路和副回路两个回路构成（图2），具有控制精度高、抗干扰能力强、响应快、动态偏差小等优点，常用于干扰强,且温度要求精确的生产过程,如化工生产中反应器的温度控制。
严格说，多数温度控制系统中被控对象在进行热交换时的温度变化过程，既是一个时间过程，也是沿空间的一个传播过程，需要用偏微分方程来描述各点温度变化的规律。因此温度控制系统本质上是一个分布参数系统。分布参数系统的分析和设计理论还很不成熟，而且往往过于复杂而难于在工程实际问题中应用。解决的途径有二：一是把温度控制系统作为时滞系统来考虑。时滞较大时采用时滞补偿调节，以保证系统的稳定性。具有时滞是多数温度控制系统的特点之一。另一途径是采用分散控制方式，把分布参数的被控过程在空间上分段化，每一段过程可作为集中参数系统来控制，构成空间上分布的多站控制系统。采用分散控制常可获得较好的控制精度。
参考书目
王永初：《自动调节系统工程设计》，机械工业出版社，北京，1983。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
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