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1)  metal-semiconductor junction (Schottky barrier)
金属半导体结(肖特基势垒)
2)  schottky barrier mos
肖特基势垒栅金属氧化物半导体
3)  MESFET
金属肖特基势垒场效应晶体管
1.
Intrinsic parameters are extracted from functions of MESFETs intrinsic elements by using extrinsic parameters as independent variables.
采用非本征元件的参数作为本征元件参数函数的自变量的方法 ,求解金属肖特基势垒场效应晶体管小信号等效电路模型 ,并采用相对误差来构建目标函数 。
4)  dual gate MESFET
双栅金属-肖特基势垒场效应晶体管
5)  schottkybarrier structure
肖特基势垒结构
6)  metal semiconductor barrier
金属 半导体接触势垒
补充资料:pn结势垒(barrierofp-njunction)
pn结势垒(barrierofp-njunction)

pn结的空间电荷区中,存在由n边指向p边的自建电场。因此,自然形成n区高于p区的电势差Vd。相应的电子势能之差即能带的弯曲量qVd称为pn结的势垒高度。pn结的p区和n区的多数载流子运动时必须越过势垒才能到达对方区域,载流子的能量低于势垒高度,就被势垒阻挡而不能前进,这个垫垒叫做pn结势垒。pn结的势垒高度与两边半导体中的杂质浓度及其分布、温度以及半导体材料的禁带宽度Eg有关。除pn结势垒外,还有金属与半导体接触的接触势垒(肖特基势垒)、半导体表面形成的表面势垒等。势垒高度受外加电场的影响,当外加电场削弱势垒区中电场时,势垒降低,载流子容易通过;外加电场加强势垒区的电场时,势垒高度升高,载流子不易通过。利用pn结势垒这一特性可制成整流、检波等多种半导体器件。

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