1) Dual-frequency capacitively coupled plasma
双频容性耦合等离子体
1.
Dual-frequency capacitively coupled plasma (DF-CCP) is one of the crucial components for etching in microelectronic manufacturing, and has been widely used in the next generation etching applications due to its simple structure and ability to control the plasma density, the ion energy distributions(IEDs), and the ion angle distributions(IADs) separately.
双频容性耦合等离子体(dual-frequency capacitively coupled plasma DF-CCP)源是半导体工业中重要的刻蚀设备,由于其可以产生大面积均匀的等离子体,通过调节高、低频源的放电参数可以有效地控制等离子体密度与离子能量、角度分布,并且结构简单成本较低,符合工业生产上的要求,双频CCP源被广泛应用在新一代的半导体刻蚀机的生产上。
2) dual frequency capacitive coupled plasma
双频电容耦合放电等离子体
3) very-high-frequency excited capacitively coupled plasma
甚高频容性耦合等离子体
4) Capacitively coupled plasma
容性耦合等离子体
1.
The amphiphobic modification on silicone rubber by CF_4 radio frequency capacitively coupled plasma
CF_4射频容性耦合等离子体对硅橡胶表面双疏改性的研究
2.
Capacitively coupled plasma (CCP) driven by dual frequency is currently becoming an important plasma source as a fine etching tool for manufacturing the ultralarge scale integrated (ULSI) circuits.
双频容性耦合等离子体(dual frequency capacitively coupled plasma DF-CCP)是近年来发展起来的一种新型的等离子体源。
补充资料：单通道电感耦合等离子体单色仪
分子式：
CAS号：
性质：由电感耦合等离子光源与扫描单色仪组成的发射光谱分析仪器。是一种只能进行单个元素分析的装置；结构简单，造价低廉，测定速度慢，消耗氩气及试样量大。测定某元素时，将波长调到其分析线位置，然后将试样喷入电感耦合等离子体喷焰中。
CAS号：
性质：由电感耦合等离子光源与扫描单色仪组成的发射光谱分析仪器。是一种只能进行单个元素分析的装置；结构简单，造价低廉，测定速度慢，消耗氩气及试样量大。测定某元素时，将波长调到其分析线位置，然后将试样喷入电感耦合等离子体喷焰中。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条