1) NiTi SMA film
NiTi SMA薄膜
1.
NiTi SMA/PZT heterogeneity composite base on PZT is obtained though depositing NiTi SMA film by the DC magnetron sputtering and crystallizing the NiTi SMA film.
采用真空直流溅射法在PZT基体上沉积NiTi SMA薄膜,再经过晶化处理而制备出PZT基NiTi SMA/PZT复合材料。
2) NiTi thin film
NiTi薄膜
1.
The amorphous NiTi thin films were fabricated by dc/ac magnetron sputtering.
弯曲和拉伸实验结果表明：自由状态的NiTi薄膜具有良好的形状记忆效应。
2.
NiTi thin films were deposited on different substrates at room temperature and 573 K, respectively by means of D.
采用直流磁控溅射方法,制备出沉积在不同温度衬底上的NiTi薄膜。
3.
The martensite transitions of NiTi thin films by magnetron sputtering were studied.
研究溅射制备的NiTi薄膜的马氏体相变行为。
3) NiTi thin films
NiTi薄膜
1.
Effect of substrate temperature on crystallization behavior of NiTi thin films;
衬底温度对沉积的NiTi薄膜晶化行为的影响
2.
The residual stress and microstructure of Ti-rich NiTi thin films with wafer which is prepared with RFmagnetic sputtering deposition and crystallized under different temperatures are analyzed.
研究了带基板磁控溅射富钛NiTi薄膜经不同温度晶化后的的微观组织和结构、相变温度及薄膜的应力状态。
4) characteristics of NiTi thin film
NiTi薄膜特性
6) NiTi alloy thin film
NiTi合金膜
补充资料：ABS/SMA blend
分子式：
CAS号：
性质：系由丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物与苯乙烯-马来酸酐组成的共混物，具有较高的热变形温度、冲击韧性及耐溶剂性，加工性能优良，价格较低，以孟山都公司Cadon为例，其悬臂梁缺口冲击强度为155～170J/m，热变形温度为102～107℃，直接熔融共混制备。用于汽车、家电及食品容器等。
CAS号：
性质：系由丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物与苯乙烯-马来酸酐组成的共混物，具有较高的热变形温度、冲击韧性及耐溶剂性，加工性能优良，价格较低，以孟山都公司Cadon为例，其悬臂梁缺口冲击强度为155～170J/m，热变形温度为102～107℃，直接熔融共混制备。用于汽车、家电及食品容器等。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条