1) electronic grade dichlorosilane
电子级二氯二氢硅
2) electronic grade trichlorosilane
电子级三氯氢硅
3) dichlordihydrosilicate
二氯二氢硅
4) silica for electronic grade
电子级二氧化硅
5) dichloromethylsilane
甲基二氯氢硅烷
1.
Catalyzed by FeCl3,the direct deoxygenative chlorination of carbonyl compounds(1) into their corresponding chlorides(2) has been achieved in the presence of dichloromethylsilane(MeSiHCl2).
在甲基二氯氢硅烷存在下,FeCl3催化羰基化合物(1)的还原氯代反应,合成了氯代烷烃(2)。
2.
Cyclohexylmethyldichlorosilane(CMCS) was synthesized from dichloromethylsilane(DCMS) and cyclohexene via hydrosilylation with silica supported Pt catalyst.
在硅胶负载铂催化剂的催化作用下,以甲基二氯氢硅烷(DCMS)和环己烯为原料,通过硅氢加成催化合成了环己基甲基二氯硅烷(CMCS),采用红外光谱和色质联机等分析测试手段对产品进行了结构表征并逐一归属。
6) methyldichlorosilane
甲基氢二氯硅烷
1.
Addition reaction of methyldichlorosilane with natural producetion β-pinene;
甲基氢二氯硅烷与β-蒎烯硅氢化反应的研究
2.
s:Several types of soluble polysilanes were prepared by the homopolymerization of methyldichlorosilane and its copolymerization with dimethyldiclorosilane.
以甲基氢二氯硅烷、二甲基二氯硅烷为原料 ,利用均聚和共聚的方法 ,合成了几种不同组成的可溶性聚硅烷 ,研究了反应条件对可溶性聚硅烷产率的影响 ,并用IR、XRD对产物进行了表征。
补充资料：电子级二氯二氢硅
分子式： SiH2Cl2
CAS号：
性质：在室温和大气压力下是一种高可燃、腐蚀性有毒气体，阈限值-重量加权平均浓度(TLV TWA)未定，可采用氯化氢的TWA值，即5×10-6(ACGIH)。于21.1℃和大气压力下气体相对密度(空气=1)3.48；气体密度4.228kg/m3；液体密度1235kg/m3(21.1℃)，1188kg/m3(40.6℃)。沸点8.2℃。熔点-122℃。在空气中的可燃限4.1％～98.8％(体积)；自燃温度58℃。与水或水气接触迅速水解产生二氧化硅和盐酸。国外多采用三氯氢硅歧化法生产粗二氯二氢硅，精馏法提纯；也有用多晶硅厂尾气中提取二氯二氢硅的技术路线，经精馏、络合、终端吸附可制得高纯二氯二氢硅。二氯二氢硅主要用于多晶硅外延生长以及化学气相淀积二氧化硅和氮化硅。
CAS号：
性质：在室温和大气压力下是一种高可燃、腐蚀性有毒气体，阈限值-重量加权平均浓度(TLV TWA)未定，可采用氯化氢的TWA值，即5×10-6(ACGIH)。于21.1℃和大气压力下气体相对密度(空气=1)3.48；气体密度4.228kg/m3；液体密度1235kg/m3(21.1℃)，1188kg/m3(40.6℃)。沸点8.2℃。熔点-122℃。在空气中的可燃限4.1％～98.8％(体积)；自燃温度58℃。与水或水气接触迅速水解产生二氧化硅和盐酸。国外多采用三氯氢硅歧化法生产粗二氯二氢硅，精馏法提纯；也有用多晶硅厂尾气中提取二氯二氢硅的技术路线，经精馏、络合、终端吸附可制得高纯二氯二氢硅。二氯二氢硅主要用于多晶硅外延生长以及化学气相淀积二氧化硅和氮化硅。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条