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1)  plasma furnace
等离子体加热炉
2)  plasma furnace
等离子体加热炉<冶>
3)  plasma heating
等离子体加热
1.
The present paper introduces the principle and function of plasma heating for tundish ofcontinuous casting machine, the structure of heating facilities mainly used worldwide, the technicalsupport from manufacturers, investment comparison and the status of application at home andabroad.
介绍了连铸中间包等离子体加热的原理和诈用,国内外主要采用的加热装置结内、生产厂的技术支持、投资比较以及国内应用现状。
4)  hydrogen plasma heating
氢等离子体加热
1.
A study of poly-silicon fims prepared by hydrogen plasma heating;
氢等离子体加热法晶化a-Si∶H薄膜
2.
Polysilicon thin films have been obtained by hydrogen plasma heating of a-Si:H films deposited by PCVD.
采用氢等离子体加热的方法晶化a-Si:H薄膜制备多晶硅薄膜,用Raman散射谱和傅里叶变换红外吸收谱(FT-IR)等方法进行表征和分析。
5)  plasma heating device
等离子体加热器
6)  PLASMA WAVE HEATING
等离子体波加热
补充资料:等离子体加热炉
分子式:
CAS号:

性质:利用电离能来加热物料的一种电炉。如图所示加热温度可高达10 000℃以上,可用于金属氧化物的高温涂层,因可在惰性气氛中进行,金属基体材料不易氧化,也可作为金属卤化物加热分解获得纳米粉的热源。还可用于难熔化合物、超硬合金的研究和等离子切割、焊接等。

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参考词条