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1)  vapo(u)r deposition carbon fiber
化学气相沉积碳纤维
2)  method SiC fiber reinforced intermetallic compound matrix composite CVD
化学气相沉积碳化硅纤维增强金属间化合物复合材料CVD
3)  chemical vapor deposition silicon carbide
化学气相沉积碳化硅
1.
To realize the super-smooth polishing of chemical vapor deposition silicon carbide(CVD SiC),nano-scratch test is applied to study the critical load for brittle-ductile transition,and its polishing mechanism is analyzed according to the force on an abrasive grain.
为实现化学气相沉积碳化硅(CVD SiC)的超光滑抛光,采用纳米划痕试验研究了化学气相沉积碳化硅脆塑转变的临界载荷,根据单颗磨粒受力对其抛光机理进行了分析,并从材料特性、工艺参数以及抛光液pH值三个方面对其表面粗糙度影响因素进行了系统的试验研究。
4)  carbon-assisted CVD method
碳辅助化学气相沉积法
1.
High-density SiO_x nanowires were fabricated on a large-scale using carbon-assisted CVD method by Fe—Al—O catalyst at 1140℃ in flowing N_2/H_2,N_2 and NH_3 atmospheres.
以N2/H2、N2或NH3为载气,利用碳辅助化学气相沉积法,常压1140℃下在石英衬底上制备了大量直径为20—300nm,长数百微米的非晶SiOx纳米线。
5)  chemical vapor deposition
化学气相沉积
1.
Study on PPy/UHMWPE fiber prepared by chemical vapor deposition;
化学气相沉积PPy/UHMWPE纤维的研究
2.
Preparation of In_2O_3 nanowires by single-source chemical vapor deposition method;
单源化学气相沉积法制备In_2O_3纳米线
3.
Dielectric properties of aluminum-doped silcion carbide using chemical vapor deposition;
化学气相沉积铝掺杂碳化硅的微波介电特性
6)  chemical vapour deposition
化学气相沉积
1.
Preparation of tellurium films with spectral selectivity by chemical vapour deposition method;
化学气相沉积法制备光谱选择性碲膜
2.
Silicon nitride films prepared by helicon wave plasam-enhanced chemical vapour deposition;
螺旋波等离子体增强化学气相沉积氮化硅薄膜
3.
A new glass coating technology to combine the method of ionic pervasion colouration with the technique of chemical vapour deposition was adapted.
将离子渗透着色技术(IPC)和化学气相沉积技术(CVD)加以结合,在浮法玻璃生产线的锡槽内和AO区进行2次镀膜形成复合膜,克服了单一镀膜技术存在的不足。
补充资料:化学气相沉积碳纤维
分子式:
CAS号:

性质:又称化学气相沉积碳纤维。指特定混合气在高温下热解沉积在催化剂微粒上成长成碳纤维。直径几微米,强度高达其理论值的1/4,模量高达1000GPa,电阻率0.8~1.5×10-4Ω·cm,抗氧化和耐腐蚀性优良。制法是将碳氢化合物的蒸气与铁、镍、硫及其氧化物或盐类微粒等催化剂源和氢氧接触,在1100℃下热解使碳沉积并在催化剂上成长,再经石墨化处理而得,也可制成弹簧状。用于先进复合材料的增强剂和弹簧等。

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参考词条