1) plasma-activated chemical vapor deposition process
等离子激活化学汽相沉积法<光>
2) plasma-activated chemical vapor deposition
等离子激活化学汽相沉积<光>
3) activated chemical vapor deposition process
激活化学汽相沉积法<光>
4) PECVD system
磁激活等离子体增强化学气相沉积
1.
Development of magnetic-actuated PECVD system;
磁激活等离子体增强化学气相沉积设备的研制
5) plasma enhanced chemical vapor depositon (PECVD)
等离子体化学汽相沉积法(PECVD)
6) method of ECR plasma CVD
电子回旋共振等离子体化学汽相沉积法
补充资料：等离子化学气相沉积
分子式：
CAS号：
性质：PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料，尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD，可在较低的温度下沉积，涂层均匀不剥落。
CAS号：
性质：PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料，尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD，可在较低的温度下沉积，涂层均匀不剥落。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条