1) overaeration
过量曝光
2) overexposure
[英][,əuvərik'spəuʒə] [美]['ovərɪk'spoʒɚ]
过曝光
1.
In order to obtain stabilizing linewidth,a novel overexposure technique was proposed for producing micro figures on thin photoresist by laser pattern generator.
在利用激光图形发生器制备微细图形时,为获得稳定的线条宽度,提出一种对薄胶层进行过曝光的技术。
3) overexposure
[英][,əuvərik'spəuʒə] [美]['ovərɪk'spoʒɚ]
过度曝光
5) ex cessive aeration
过量曝气
6) exposure
[英][ɪk'spəʊʒə(r)] [美][ɪk'spoʒɚ]
(1)曝光(2)曝光量
补充资料：对映体过量
分子式：
CAS号：
性质：通常用％e. e.表示。系指两种对映关系的异构体R和S的百分含量之差。对映体过量百分率(％e. e.)=100％=R%-S%。式中，[R]为主要对映体产物的量，[S]为次要对映体产物的量。例如，R和S两对映体重量分别为60和40，则该化合物的对映体过量为20％。
CAS号：
性质：通常用％e. e.表示。系指两种对映关系的异构体R和S的百分含量之差。对映体过量百分率(％e. e.)=100％=R%-S%。式中，[R]为主要对映体产物的量，[S]为次要对映体产物的量。例如，R和S两对映体重量分别为60和40，则该化合物的对映体过量为20％。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条