1) sputtering seedlayer
溅射种子层
2) multilayer sputtering
多层溅射
1.
Tungsten silicides with different compositions are prepared from multilayer sputtering on silicon substrate by annealing at temperatures ranging from 400 to 1000℃ in vacuum.
采用多层溅射技术制备了不同成分的ＷＳｉｘ／Ｓｉ薄膜，然后利用真空退火形成硅化钨。
3) sputtered coating
溅射涂层
1.
Post-aluminizing was performed on the sputtered coating to further upgrade its corrosion resistance.
结果表明:溅射涂层中的Cr和表面生成的Cr2O3会与盐和水蒸气反应,涂层与基体产生剥离,腐蚀相当严重,失去保护作用;渗Al涂层表面形成了单相的薄而致密的Al2O3膜,Al2O3保护膜在盐和水蒸气环境中具有很高的化学稳定性,可以对原溅射涂层起到有效的保护作用。
4) ion sputtering
离子溅射
1.
Application of ion sputtering in plasma nitriding of austenitic stainless steel
离子溅射在奥氏体不锈钢离子渗氮中的应用
2.
Effect of ion sputtering platinum on photocatalytic degradation of ethylene in the environment of cold storage
离子溅射Pt对光催化降解冷藏环境中乙烯的影响
3.
Silicate substrates were coated by ion sputtering with nickel,and then used to catalyze the decomposition of low hydrocarbons to prepare the relatively well distributed carbon nanotubes films(CNFs).
1 实验部份1 1 镀膜与后处理采用离子溅射法在硅酸盐基板上镀镍,镀镍电流7 5mA,镀镍时间分别为2min、15min、30min、45min或60min;对镀镍基板再进行蚀刻(蚀刻电流7 5mA,蚀刻时间2min)或用氨水浸泡处理(含NH325%,超声振荡30min),然后烘干备用。
5) sputtered atom
溅射原子
1.
Computer simulation of sputtering of target and transportation of sputtered atoms;
靶材溅射及溅射原子输运的计算机模拟
6) Neutron sputtering
中子溅射
补充资料：种子生现行现行薰种子
【种子生现行现行薰种子】
（术语）在色者二缘和合，在心者四缘和合时，阿赖耶识所持之种子，生现行。是本有种子生果之功能也。此谓之种子生现行。其现行之法，必随所应而薰种子，其薰之种子，即新薰种子也。此谓之现行薰种子。应知此时有三法，成二重之因果。三法者：一为能生之种子，二为所生之现行，三为所薰之种子。二重之因果者：一为种子生现行，二为现行薰种子。此三法同时成二重之因果。以所生之现行，即薰种子故也。此谓之种子生现行现行薰种子。又曰三法展转因果同时。就八识而论，则第八识所持之种子为因，生眼等之七转识，同时七转识之现行法为因，生第八识之种子。因而谓之七转第八互为因果。本宗因果之谈于此为极。
（术语）在色者二缘和合，在心者四缘和合时，阿赖耶识所持之种子，生现行。是本有种子生果之功能也。此谓之种子生现行。其现行之法，必随所应而薰种子，其薰之种子，即新薰种子也。此谓之现行薰种子。应知此时有三法，成二重之因果。三法者：一为能生之种子，二为所生之现行，三为所薰之种子。二重之因果者：一为种子生现行，二为现行薰种子。此三法同时成二重之因果。以所生之现行，即薰种子故也。此谓之种子生现行现行薰种子。又曰三法展转因果同时。就八识而论，则第八识所持之种子为因，生眼等之七转识，同时七转识之现行法为因，生第八识之种子。因而谓之七转第八互为因果。本宗因果之谈于此为极。
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