1) controlled plasma magnetron(CPM)
控制等离子体磁控管
2) madistor
['mædistə]
晶体磁控管，磁控型半导体等离子器件
3) plasma arc controlled by magnetic field
磁控等离子体弧
1.
Flexible forming using plasma arc controlled by magnetic field is a new no mould processing technique which has very wide application prospect on large plates in multiple varieties and low batch production.
磁控等离子体弧柔性成形作为一种新的无模加工方法,在多品种、小批量大型板件成形生产中具有广阔的应用前景,弧柱品质对磁控等离子体弧柔性成形的质量和效率起着重要作用。
4) plasma control
等离子体控制
1.
The plasma control mechanism was theoretically analysed.
采用精密的侧吹辅助气体调节和控制装置，实验研究了等离子体控制的各种工艺参数；采用光电晶体管检测熔池表面及小孔内等离子体光强变化；从理论上分析了等离子体控制的机理。
5) Magnetic-controlling plasma polymerization
磁控等离子体聚合
6) magnetic-controlled arc discharge plasma
磁控弧光放电等离子体
补充资料：等离子体压强和磁压强
在流体近似下，可以把等离子体看成是彼此相互作用的电子和离子两种气体的混合物。它们各具有动力压强,上述两种气体成分的分压强之和P=k(niTi+neTe)称为等离子体压强，k是玻耳兹曼常数,角标i、e分别表示离子和电子。
经常遇到的处在静磁场 B中的等离子体，除了等离子体压强外，它还受到磁力 作用，j是电流密度。当磁力线是直的并互相平行时，(B·墷)B项等于零，相当于压强，称为等离子体磁压强。
在等离子体压强和磁压强并存之时，常用参数表示磁压强的相对重要性。这个参数称为比压。
经常遇到的处在静磁场 B中的等离子体，除了等离子体压强外，它还受到磁力 作用，j是电流密度。当磁力线是直的并互相平行时，(B·墷)B项等于零，相当于压强，称为等离子体磁压强。
在等离子体压强和磁压强并存之时，常用参数表示磁压强的相对重要性。这个参数称为比压。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条