2) Dislocation density
位错密度
1.
Investigation on dislocation density of SiGe alloy grown by MBE;
分子束外延生长SiGe合金中位错密度的研究
2.
Determination of the kinetics for dynamic recrystallization based on dislocation density variation
基于位错密度变化的动态再结晶动力学确定方法
3.
The basic theories and the applications of both the critical resolved shear stress model and visco-plastic model are presented for predicting the dislocation density during crystal growth process.
与熔体不润湿、与晶体热膨胀系数相近的坩埚材料,低位错密度的籽晶可有效地抑制生长晶体的位错密度;固液界面的形状及晶体内的温度梯度是降低位错密度的关键控制因素,而两因素又受到炉膛温度梯度、长晶速率、气体和熔体对流等晶体生长工艺参数的影响。
3) in-situ densities
原位密度
4) density of dislocation
错位密度
5) mil-graduated
密位分度
6) linear bit density
线位密度
补充资料：位密度
分子式：
分子量：
CAS号：
性质：见记录密度。
分子量：
CAS号：
性质：见记录密度。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条