1) photomask
['fəutəumɑ:sk]
遮光模，光掩模
2) optical mask
光学掩模
1.
Design for optical mask of micro sun sensor;
微型太阳敏感器光学掩模的镀膜设计
4) photomask
['fəutəumɑ:sk]
光掩模
1.
Study of Competition Strategy for Toppan Photomask Company LTD, Shanghai;
上海凸版光掩模有限公司竞争战略研究
2.
Acted as the process base of wafer fab for the past several years while the use of CAR resist is rapidly increasing, the DNQ resist still works well in photomask fabrication due to the 4X or 5X image reduction transferred from photomask to wafer.
THMR-IP系列光刻胶是基于DNQ材料的一种i线光刻胶,被广泛用于i线光刻机的硅片产品及i线图形发生器的光掩模产品上。
5) Grating Masks
光栅掩模
1.
The Control Study of Profiles of Photoresist Grating Masks;
光刻胶光栅掩模槽形的控制研究
补充资料：凹模、凸凹模工作型面加工工艺过程
1)备料。 n
2)锻造。锻成长方形的坯料(每件留长工艺夹头)。 n
3)热处理。退火。 n
4)铣(刨)削。铣(刨)削六面成长方形模块。 n
5)磨削。磨削上、下两端面及相邻两侧面，用90。角尺测量相邻两面的垂直度。 n
6)钳工加工。用平板和划线盘按图划线，并打样冲眼；用钻头钻螺纹底孔；用圆柱销孔的预孔；用钻头钻挡料销让位孔；用钻头在中心处钻穿丝孔等；正、反面孔口倒角；凸凹模用钻头孔扩，保证刃口高度；攻螺纹；铰孔。n
7)铣削。平口钳装夹工件；用的立铣刀铣削型孔至尺寸，保证深度。 n
8)热处理。凹模工件淬硬至HRC60～64，凸凹模工件淬硬至HRC58～62。 n
9)平磨。磨上、下两端面及相邻两侧面，用90。角尺测量相邻两面的垂直度至图要求；退磁。 n
10)线切割。按图编制线切割程序，切割模型孔成形，留单面研磨余量0.005 mm。 n
11)钳工加工。研光线切割面： n
12)检验。 n复合冲裁模的装配应选择凸凹模作为装配基准件，先装下模部分，后装上模部分
2)锻造。锻成长方形的坯料(每件留长工艺夹头)。 n
3)热处理。退火。 n
4)铣(刨)削。铣(刨)削六面成长方形模块。 n
5)磨削。磨削上、下两端面及相邻两侧面，用90。角尺测量相邻两面的垂直度。 n
6)钳工加工。用平板和划线盘按图划线，并打样冲眼；用钻头钻螺纹底孔；用圆柱销孔的预孔；用钻头钻挡料销让位孔；用钻头在中心处钻穿丝孔等；正、反面孔口倒角；凸凹模用钻头孔扩，保证刃口高度；攻螺纹；铰孔。n
7)铣削。平口钳装夹工件；用的立铣刀铣削型孔至尺寸，保证深度。 n
8)热处理。凹模工件淬硬至HRC60～64，凸凹模工件淬硬至HRC58～62。 n
9)平磨。磨上、下两端面及相邻两侧面，用90。角尺测量相邻两面的垂直度至图要求；退磁。 n
10)线切割。按图编制线切割程序，切割模型孔成形，留单面研磨余量0.005 mm。 n
11)钳工加工。研光线切割面： n
12)检验。 n复合冲裁模的装配应选择凸凹模作为装配基准件，先装下模部分，后装上模部分
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条