1) gold doped process
掺金工艺
2) doping process
掺杂工艺
1.
The influence of impurities and doping process on the performance of Nano-BaTiO_(3)-Based ceramics;
掺杂离子及掺杂工艺对钛酸钡性能的影响
2.
The effect of HCl doping process on the conductivity of polyaniline was investigated through orthogonal tests.
采用正交实验法研究盐酸(HCl)掺杂工艺对导电聚苯胺电导率的影响。
3) Blending process
掺兑工艺
1.
Study of the Blending process of Bitter Salts High-tewperature Salts and Mixed Brine;
苦盐、高温盐、混合卤掺兑工艺的研究
4) joined technical
掺加工艺
5) water blending technology
掺水工艺
1.
Problems appeared after application of water blending technology and their solutions;
掺水工艺实施后存在问题及解决办法
6) codoping process
共掺杂工艺
1.
This article gives a description of the progress in self-com-pensation model for p-doping, the codoping process and mechanism, PL .
介绍了p型掺杂GaN中的自补偿模型、共掺杂工艺的原理和进展、PL谱的性质以及一些新的掺杂工艺。
补充资料：离子掺杂工艺
分子式：
CAS号：
性质：又称离子掺杂工艺，离子注入工艺。指在加速电场作用下，将掺杂用离子束注入被掺杂体内的掺杂方法。这种掺杂方法的目的有两个，其一是利用注入离子实现绝缘型高分子的极化，制备高分子驻极体；其二是利用注入离子与被掺杂材料分子的相互作用，改变其荷电状态，从而增加载流子密度，提高导电性能。离子注入具有许多优点:掺杂温度较低；掺杂浓度可控；掺杂区清晰；能实现大面积均匀掺杂；可在半导体内形成各种复杂的结构；适用于浅结扩散。掺杂剂种类较多，通常有三氟化磷、五氟化磷、三氟化砷、五氟化砷、三氟化硼、三氯化硼、磷烷、砷烷、乙硼烷等
CAS号：
性质：又称离子掺杂工艺，离子注入工艺。指在加速电场作用下，将掺杂用离子束注入被掺杂体内的掺杂方法。这种掺杂方法的目的有两个，其一是利用注入离子实现绝缘型高分子的极化，制备高分子驻极体；其二是利用注入离子与被掺杂材料分子的相互作用，改变其荷电状态，从而增加载流子密度，提高导电性能。离子注入具有许多优点:掺杂温度较低；掺杂浓度可控；掺杂区清晰；能实现大面积均匀掺杂；可在半导体内形成各种复杂的结构；适用于浅结扩散。掺杂剂种类较多，通常有三氟化磷、五氟化磷、三氟化砷、五氟化砷、三氟化硼、三氯化硼、磷烷、砷烷、乙硼烷等
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条