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1)  implant masking step
离子注入用掩蔽工序
2)  masked ion implantation
掩蔽离子注入
3)  ion implantation mask
离子注入掩膜
4)  maskless ion implantation
无掩模离子注入
5)  photolithographic masking operation
光刻掩蔽工序
6)  sheltering the interference ions
掩蔽干扰离子
补充资料:阳离子-阳离子干扰
分子式:
CAS号:

性质:火焰原子吸收光谱分析中,伴生阳离子对待测阳离子测定中信号的增强或抑制。它属于化学干扰;信号增强属于增感效应,信号被抑制属于干扰效应。如测定镁时铝存在可抑制镁的信号;测定铝时钛存在,可增强铝的信号。前者由于生成难解离的MgO·Al2O3,减少了镁的基态原子;后者是钛的亲氧能力比铝强,钛夺取了氧化铝中的氧,生成氧化钛,铝从氧化铝中释放出来。

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