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1)  large area exposure
大面积曝光
2)  the biggest area equality aeration
大面积均匀曝气
3)  exposed area ratio
蚀刻面积率,曝光面积率
4)  Big Area Lithography
大面积光刻
1.
Technique of Achieving Big Area Lithography By Using Step&scan of Light Sourse;
光源步进扫描实现大面积光刻
5)  planar exposure
平面曝光
1.
To solve this problem, on the basis of informing existing actuality of micro photograph curing stereolithography, this paper suggests a new stereolithography project of planar exposure; also, the experimental device is designed and made.
为了解决这一问题 ,在报告微型光固化立体成型法现状的基础上 ,提出了一种新颖的平面曝光型光造型方案 ,设计并制作了实验装置 ,利用热敏色带制作微型平面掩膜 ,进行了平面固化成型实验。
6)  doubleside exposure
双面曝光
补充资料:大气泡曝气
分子式:
CAS号:

性质:气泡曝气方法之一。它是通过多孔管或开口接头的管子,产生相当大的空气泡的曝气(气泡直径一般在4mm以上)。在活性污泥法废水生物处理过程中,为增加更多的气-液界面,利用浸没式多孔扩散器将空气气泡扩散到废水中充氧。与微气泡曝气相比较,扩散管浸没深度较浅,可使用低压鼓风机。其充氧效率一般为4%~8%。

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参考词条