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1)  step and repeat mask
步进重复曝光掩模
2)  step and repeat exposure
步进重复曝光
3)  repeating exposure
重复曝光
4)  step printing
步进式曝光
5)  reduced mask printing
缩小掩模曝光
6)  stepper lithography
步进重复光刻
补充资料:重复
分子式:
CAS号:

性质:指在相同的实验条件下进行反复测定和测量。重复的目的是估计实验误差,提高平均值的测定精度。它是费歇尔(R.A.Fisher)提出的设计试验的三个基本原则之一,其他两个原则是局部控制与随机化。

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参考词条