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1)  ultraviolet projection system
紫外投影装置
2)  projecting apparatus
投影仪;投影装置
3)  EUVL
极紫外投影光刻
1.
To study the two-mirror reduced projection optics for Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL), Schwarzschild design form and flat field design form were investigated.
极紫外投影光刻(EUVL)两镜微缩投影物镜通常采用Schwarzschild结构和平场结构。
2.
Some problems were brought from the short wavelength of EUVL.
针对极紫外投影光刻 ( Extreme Ultraviolet Lithography,简称 EUVL)工作波长短的特点及由此带来的一些问题 ,对 EUVL微缩投影物镜的结构参数进行分析选择 ,设计了离轴照明方式的 Schwarzschild微缩投影成像物镜。
3.
A laser-produced plasma(LPP) source with liquid aerosol spray target and nanosecond laser was developed,based on both soft X-ray radiation metrology and extreme ultraviolet projection lithography(EUVL).
基于软X射线辐射计量和极紫外投影光刻(EUVL)应用,研制了一台使用纳秒激光器的液体微滴喷射靶激光等离子体(LPP)极紫外光源。
4)  uv projection printing
紫外线投影曝光
5)  kinetoscope [英][ki'ni:təskəup]  [美][kɪ'nitə,skop]
投观影装置
6)  UV cure equipment
紫外固化装置
补充资料:投影仪
      利用光学投影系统把被测件放大后进行测量的长度测量工具。投影仪主要用于测量复杂形状工件,如成形刀具、样板、凸轮、仪表零件、电子元件的轮廓形状和表面尺寸等。应用光切法(见表面粗糙度测量)测量的投影仪还可测量汽轮机叶片等的剖面几何形状。投影仪一般采用透射式光学投影系统,但也有带有反射式光学投影系统的(图1)。前者主要用于测量薄工件的轮廓尺寸;后者主要用于测量工件端面上的形状和尺寸等。投影仪除了有光学投影系统外,还有类似工具显微镜那样的坐标工作台(简称工作台)。测量时,被测件放在工作台上,移动或转动工作台,使投影屏上的标线对准被测长度的起点或一边。从读数机构读出工作台的坐标位置,再移动或转动工作台,使标线对准被测长度的终点或另一边,然后读出工作台的坐标值。两次读数值之差就是被测长度的量值。测角时也常以转动投影屏来对准。在投影屏上还可绘出被测长度带有公差带的放大图形,以此与投影屏上实际被测长度的放大图形比较,检验其尺寸是否合格。此法可同时测量被测件上多个尺寸,效率较高。投影仪按物镜光轴方向可分为立式(图2)和卧式两种。其放大倍数一般为10、20、50和100倍,也有200倍的。读数机构的分度值一般为0.01、0.005和0.001毫米。
  

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