1) reflection type fluorometer
反射式荧光计
2) mirror-backed screen
背反射式荧光屏
3) target plane
反射荧光屏
4) fluorescent reflectivity
荧光反射率
1.
The optimum dyeing process of fluorescent acrylic fiber was obtained by testing fluorescent reflectivity as follows: dyeing at(85 ℃) for 75 min with pH value 3.
通过荧光反射率测试,确定纱线最佳染色工艺为染色温度85℃,染色时间75 min,染液pH值3。
6) optical frequency domain reflectometer(OFDR)
光频域反射计式
补充资料：全反射X射线荧光分析
分子式：
CAS号：
性质：20世纪80年代迅速发展起来的一种高灵敏度痕量分析方法。当一束经过准直的X射线束，以低于全反射临界角φ投射到表面高度平滑的石英切割反射体（低通能量滤波器）时，低能X射线进行全反射，高能X射线被反射体材料折射和吸收而受到衰减，降低了散射背景。经全反射的高能X射线射到样品架上的μm级薄膜样品，激发被分析样品产生元素的特征X射线荧光，未被利用的入射X射线荧光被垂直放置的Si(或Li)探测器所检测，实现痕量元素的定性和定量分析。由于大大减少了原级X射线在样品架和样品上的相干和不相干散射，使散射本底较常规能量色散X射线荧光分析降低了3个数量级以上，大大降低了检出限，对原子序数大于11的大部分元素检出限可达到10-10～10-12g。此外还具有试样用样量少（μL或μg级）；可测定的元素和浓度范围广，除Na, Mg, Al, Si, P等轻元素外均可测；基体效应可以忽略；制样简便等优点。
CAS号：
性质：20世纪80年代迅速发展起来的一种高灵敏度痕量分析方法。当一束经过准直的X射线束，以低于全反射临界角φ投射到表面高度平滑的石英切割反射体（低通能量滤波器）时，低能X射线进行全反射，高能X射线被反射体材料折射和吸收而受到衰减，降低了散射背景。经全反射的高能X射线射到样品架上的μm级薄膜样品，激发被分析样品产生元素的特征X射线荧光，未被利用的入射X射线荧光被垂直放置的Si(或Li)探测器所检测，实现痕量元素的定性和定量分析。由于大大减少了原级X射线在样品架和样品上的相干和不相干散射，使散射本底较常规能量色散X射线荧光分析降低了3个数量级以上，大大降低了检出限，对原子序数大于11的大部分元素检出限可达到10-10～10-12g。此外还具有试样用样量少（μL或μg级）；可测定的元素和浓度范围广，除Na, Mg, Al, Si, P等轻元素外均可测；基体效应可以忽略；制样简便等优点。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条