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1)  auxiliary exposure
辅助曝光
2)  laser assisted
激光辅助
3)  auxiliary diaphragm
辅助光阑
1.
A novel method of measuring absolute X ray wavelengths using an auxiliary diaphragm attached to the planar crystal, which can accurately determine wavelengths without any reference line and any information or special position.
提出一种简便的新方法用以实现X射线平晶谱仪谱线波长的直接标定 ,只需在谱仪晶体表面加上一个特制的辅助光阑 ,即可在不知光源位置和没有任何参考谱线的情况下精确标定谱线的波长。
4)  photo-assisted
光辅助
1.
Pr-Ca-Mn-O(PCMO) thin films were successfully deposited on LAO,Pt/Ti/SiO2/Si,Pt/LAO substrates by photo-assisted MOCVD(PhA-MOCVD).
用光辅助MOCVD的方法成功地在LAO,Pt/Ti/S iO2/S i,Pt/LAO等不同的衬底上生长出巨磁阻材料PCMO,并且在室温无磁场的环境中观察到由脉冲电压诱导其电阻可逆变的效应(称为EPIR效应)。
2.
We have discussed the mechanism of photo-assisted chemical wet etching,the difficulty of p-GaN wet etching and the application of wet etching in the research of GaN.
回顾了近年来GaN材料湿法刻蚀的研究进展,着重探讨了GaN材料光辅助化学湿法刻蚀的机理、p-GaN材料湿法刻蚀的难点以及湿法刻蚀在GaN材料研究中的应用。
3.
In order to solve the above-mentioned problem,our research has been focused on preparing high-quality undoped and doped ZnO films and fabricating ZnO-based heterojunctions by metal-organic chemical vapor deposition(MOCVD) and photo-assisted MOCVD(PA-MOCVD) techniques.
在ZnO薄膜的沉积过程中引入光辅助可以有效的改善薄膜的表面形貌、结晶质量和发光质量。
5)  secondary light source
辅助光源
6)  supplementary illumination
辅助光照
补充资料:基质辅助激光解吸时间飞行质谱
分子式:
CAS号:

性质:从原理上讲,它属于激光解吸质谱(LDMS),它与普通LDMS的不同在于,激光不是直接打在试样上使之解吸,而是把试样悬浮在基质中,激光打在基质上,基质吸收并传递激光能量,使基质中的试样解吸出来,试样解吸并电离后进入时间飞行质谱仪中检测。MALDI-TOFMS由于使用了基质辅助,它对激光能量的限制就比较宽了,对不同的试样,改变基质,可以获得更满意的结果。目前MALDI-TOF MS是用来进行药物、生物分子的测定的较好手段。

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