1) crown ether silicon slice cleaning agent
冠醚硅片清洗剂
2) silicon slice detergent
硅片清洗剂
3) silicon wafer cleaning
硅片清洗
1.
At the same time, the paper pointed out the developing tendency of the silicon wafer cleaning process.
介绍了兆声波、臭氧、电解离子水、只用HF清洗或简化常规工艺后最后用HF清洗等最新的硅片清洗技术,指出了硅片清洗工艺的发展趋势。
4) silicon wafer surface cleaning
硅片表面清洗
5) wafer cleaning
硅清洗
6) clearing of substrate
基片清洗
补充资料：冠醚
| 冠醚 crown ether 含有多个氧原子的大环化合物。又称大环醚。命名时把环上所含原子的总数标注在“冠”字之前，把其中所含氧原子数标注在名称之后，如15-冠（醚）-5、18-冠（醚）-6、二环已烷并-18-冠（醚）-6：
冠醚能与正离子，尤其是与金属离子络合，并且随环的大小不同而与不同的金属离子络合。例如，12-冠-4与锂离子络合而不与钾离子络合；18-冠-6不仅与钾离子络合，还可与重氮盐络合，但不与锂或钠离子络合。冠醚的这种性质在合成上极为有用，使许多在传统条件下难以反应甚至不发生的反应能顺利地进行。冠醚与试剂中正离子络合，使该正离子可溶在有机溶剂中，而与它相对应的负离子也随同进入有机溶剂内，冠醚不与负离子络合，使游离或裸露的负离子反应活性很高，能迅速反应。在此过程中，冠醚把试剂带入有机溶剂中，称为相转移剂或相转移催化剂，这样发生的反应称为相转移催化反应。 冠醚通常采用威廉森合成法制取，即用醇盐与卤代烷反应生成。 |
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参考词条