1) optical projection exposure method
光学投影曝光法
2) optical projection printing
光学投影曝光
3) projection electron beam lithography
电子束投影曝光
1.
The fabrication, performance and use of the membrane plus scatterer mask for the projection electron beam lithography system are described.
介绍了用于电子束投影曝光系统中薄膜加散射体掩模的制备、性能和使用情
4) electron projection printing
电子投影曝光
5) out of contact printing
无接触投影曝光
6) scanning projection printing
扫描式投影曝光
补充资料：滤波反投影或卷积反投影
滤波反投影或卷积反投影
影像学术语。当代影像学设备进行影像重建的数学方法。在直接用扫描后所获得的投影轨迹剖面图反投影重建出的CT图像中，无法避免角度卷入条纹伪影(angular aliasing streaks)造成的模糊和失真。这种现象与被扫描层面的空间频率中高频信息的损失有关。使用一种精密的数学方法去除这种模糊。称为“展现”(unfolding)或去卷积(deconvolution)，即在反投影前使用一种数学的“滤器”或卷积函数对原始数据进行修正，然后再进行反投影。两步数学处理过程合称为滤波(修正后)反投影或卷积(后)反投影。这种方法的优点是处理过程简单，速度快，所得图像逼真、清晰。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条