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1)  SiO2/Si and Si3N4/Si
SiO2/Si和Si3N4/Si
2)  SiO_2/Si
SiO2/Si
1.
The stress distribution of a SiO_2/Si waveguide during different sintering step is analyzed theoretically using the finite element method.
采用有限元法对SiO2/Si掩埋光波导制备工艺中的应力变化进行了系统的分析,在此基础上,应用有限差分束传播法(FDBPM)对应力光波导的双折射进行了计算。
3)  nc-Si/SiO_2
nc-Si/SiO2
1.
nc-Si/SiO_2 system was fabricated by evaporating SiO powder onto Si(100) substrate to form SiO_x thin film,followed by 1100 ℃ high temperature annealing in nitrogen atmosphere.
真空蒸发SiO粉末,在Si(100)基体上制备SiOx薄膜,后续氮气中1100℃退火制备镶嵌在SiO2基体中的纳米晶Si体系(nc-Si/SiO2),然后将该样品放入真空室,在其上沉积CeF3薄膜,不同温度下热处理使Ce3+扩散到nc-Si附近,实现对纳米晶Si的掺杂。
4)  SiO2/Si substrate
SiO2/Si衬底
5)  Pt/Ti/SiO2/Si substrate
Pt/Ti/SiO2/Si
6)  Si-SiO 2 thin film
Si-SiO2薄膜
补充资料:SI
    有机硅树脂简称SI,是由三乙氧基硅烷等缩合而成。溶于乙醇、丁醇、醋酸乙酯、丙酮、苯、甲苯、环己酮等。预聚体在低温下能快速固化,固化后的树脂硬度高、耐热、耐磨、耐辐射、耐水、防潮、耐大气老化,低温(-50℃)不脆化。透明度高,可见光透光率90%以上。无毒。
    用作酚醛树脂和环氧树脂剂的改性剂,可提高耐热性和耐水性贮存于阴凉、通风、干燥的库房内。
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参考词条