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1)  four-shaft-ball lapping machine
四轴球体研磨机
1.
Lapping uniformity of four-shaft-ball lapping machine
四轴球体研磨机的研磨均匀性
2)  four axies grinding machine
四轴研磨机
3)  four-cup automatic sphere lapping machine
四杯式自动球面研磨机
4)  ball lapping
球体研磨
1.
Mechanism and experiment of superprecision ball lapping for the four shafts lapping machine;
四轴球体研磨机超精密研磨的机理及试验
5)  grinder spindle
研磨机心轴,研磨机立轴
6)  pivot burnisher
枢轴研磨机
补充资料:空心超导球体(hollowsuperconductingsphere)
空心超导球体(hollowsuperconductingsphere)

设内外半径分别为r1和r2(r1≤r≤r2),壁厚d=r2-r1的第一类超导体的空心球体处于外磁场强度H0中。令ζ=r/δ,Δ=d/δ,δ=δ0/ψ,δ0为大样品弱磁场穿透深度,ψ是有序参量。设H1和M分别是空腔中磁场强度和样品磁矩。按GL理论,徐龙道和Zharkov给出的部分主要结果如下:

`\zeta_1\gt\gt1`和$\Delta\gt\gt1$时,

H1=6H0ζ2ζ1-2e-Δ,
M=-H0r23(1-3δ/r2)/2

所以对厚壁样品,腔内H1≈0,只要H0低于临界磁场,球壳层可视为磁屏蔽物,样品可利用为磁屏蔽体。对$\zeta_1\gt\gt1$和$\Delta\lt\lt1$的情形,则

H1=H0/(1 ζ1Δ/3),
M=-H0r23[1-1/(1 ζ1Δ/3)]/2

可见,若$\zeta_1\Delta\gt\gt1$,则$H_1\lt\ltH_0$或H1≈0。所以,虽然$d\lt\lt\delta$,但磁场仍被屏蔽而很难透入空腔,称ζ1Δ/3为空心超导球体的屏蔽因子。相反,$\zeta_1\Delta\lt\lt1$,则H1≈H0,球壳层几乎不起屏蔽磁场的作用。对M讲,也可作同样讨论。此外,类似于实心小样品,也可求出各种临界磁场HK1,HK,HK2和临界尺寸等。

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