1) imaging electron optical systems
成像电子光学系统
2) electron optical imaging system
电子光学成像系统
1.
Test and verification of temporal aberration theory for electron optical imaging systems by an electrostatic concentric spherical system model;
静电聚焦同心球系统验证电子光学成像系统的时间像差理论
2.
Theory of temporal aberrations for electron optical imaging systems by direct integral method;
直接积分法研究电子光学成像系统的时间像差理论
3) imaging of optical systems
光学系统的成像
5) optical imaging system
光学成像系统
1.
Aberration correction of a large aperture optical imaging system by holography;
利用激光全息技术校正大口径光学成像系统像差
2.
This paper discribes a optical imaging system which is used to measure colour purity drift,electron beam landing screen deviation and 3 beam misconvergence,and the optical path feature,the selected method of magnification and the aberration correction are described.
本文讨论了彩色显像管色纯漂移，电子束着屏误差，失会聚量测试用的光学成像系统的光路特点、设计原则、放大倍率的选定及光路选型及像差校正方法。
6) 4f optical imaging system
4f光学成像系统
1.
Both of the methods are based on the 4f optical imaging system.
这两种技术都是建立在4f光学成像系统基础之上的。
补充资料：电子光学
| 电子光学 electron optics 研究电子在电磁场中运动和电子束在电磁场中聚焦、成像、偏转等规律的学科。1926年H.布许发表关于磁聚焦的论文，30年代W.格拉叟和O.谢尔赤发表关于旋转对称系统电子光学的理论，这些奠定了电子光学的理论基础。从此，电子光学开始形成为一门独立的学科。电子光学同普通光学有许多相似之处。例如凸透镜可使一束平行光线聚焦到一个点上；而某些轴对称的电磁场（称为电子透镜）也可以使平行的电子束聚集到一点。在电子光学器件和仪器中，除采用电子透镜外，还常应用垂直于电子束运动方向的电场和磁场使电子束偏转。为了分析、研究或设计电子光学系统，必须精确地求解电磁场并计算出电子轨迹 ，通常采用电子计算机求解。在电子光学器件和仪器中，若电子束被限制在离轴很近的范围内，电子轨迹与轴的交角很小（即满足傍轴条件）时，电子透镜所成的像是理想像或称高斯像。实际轨迹不可能完全满足傍轴条件，因此实际形成的像总是和理想高斯像有一定的差别。这种差别称为几何像差，它同普通光学中的像差十分相似。几何像差的大小决定成像品质的优劣。几何像差大小及其克服办法也是电子光学学科研究内容之一。广义的电子光学还包括离子光学。电子光学是设计电子束管和电子离子仪器的理论基础。电子光学已渗入到无线电电子学、电子显微学、质谱学、电子能谱学、表面物理、材料科学、高能物理等领域中，凡是涉及到产生、控制和利用带电粒子束的问题，都需要运用电子光学成果。 |
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参考词条