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1)  Ni-Al_2O_3 film
Ni-Al2O3复合薄膜
2)  Al2O3 composite membrane
Al2O3系复合薄膜
3)  Al 2O 3 meso-porous composite film
Al2O3介孔复合薄膜
4)  HfO2-Al2O3 composite films
HfO2-Al2O3复合薄膜
1.
And 1-on-1 laser-induced damage threshold tests on HfO2 thin films and HfO2-Al2O3 composite films were carried out with a Q-switched Nd:YAG high power laser at 1 064 nm with a pulse width of 10 ns.
32 J/cm2,比热处理前的激光损伤阈值提高了82%;无机材料Al2O3的适量添加能够提高薄膜的激光损伤阈值,其中HfO2与Al2O3的最佳质量配比约为95∶5;另外,对薄膜进行适当的紫外辐照也可改善HfO2薄膜以及HfO2-Al2O3复合薄膜的抗激光损伤性能。
5)  Al2O3-La2O3 composite thin film
Al2O3-La2O3复合薄膜
6)  Al2O3-TiO2 compound thin films
Al2O3-TiO2复合薄膜
补充资料:Ni

ni:

1 (non-intel,非英特尔架构)

除了英特尔之外,还有许多其它生产兼容x86体系的厂商,由于专利权的问题,它们的产品和英特尔系不一样,但仍然能运行x86指令。

2 美国国家仪器(ni)有限公司(national instruments)

national instruments (美国国家仪器有限公司,简称ni)创立于1976年,总部设于texas州首府austin,是一家测量行业的上市公司 (纳斯达克挂牌代号 nati) ,在世界各地设有50多个分公司和办事处,和众多系统联盟成员。

3

元素符号: ni 英文名: nickel 中文名: 镍

相对原子质量: 58.7 常见化合价: +2,+3 电负性: 1.91

外围电子排布: 3d 4s2 核外电子排布: 2,8,16,2

同位素及放射线: ni-56[6.1d] ni-57[35.6h] *ni-58 ni-59[76000y] ni-60 ni-61 ni-62 ni-63[100y] ni-64 ni-65[2.51h]

电子亲合和能: 111.5 kj·mol-1

第一电离能: 737 kj·mol-1 第二电离能: 1753 kj·mol-1 第三电离能: 3393 kj·mol-1

单质密度: 8.902 g/cm3 单质熔点: 1453.0 ℃ 单质沸点: 2732.0 ℃

原子半径: 1.62 埃 离子半径: 0.69(+2) 埃 共价半径: 1.15 埃

常见化合物: nibr2 nio niso4 nis nicl2

发现人: 克朗斯塔特 时间: 1751 地点: 瑞典

名称由来:

德语:kupfernickel(假铜)。

元素描述:

硬而柔韧的银白色金属。见于地壳局部,平均含量百万分之70。能被磨得光亮如镜,通常情况下绝不生锈。

元素来源:

主要见于镍黄铁矿[(ni,fe)9s8]中。镍金属的生产方法是在鼓风炉里加热矿石,于是矿石中的硫被氧置换。随后用酸处理生成的氧化物,铁就会与酸反应,而镍保留下来。

元素用途:

由于镍的耐腐蚀性,可用作镀层金属、制金属合金,也可用于制镍镉电池、作催化剂,以及铸造硬币。

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参考词条