1) trace uniformity
轨迹均匀性
1.
The research method of the trace uniformity of plane lapping/polishing is described, and the mathematical function and the uniformity of trace for lapping/polishing modes mentioned above are discussed, and the deficiency of the current trace study is analyzed.
介绍了平面研磨抛光轨迹均匀性的研究方法,详细阐述了双轴式(包括定偏心式和不定偏心式)、直线式、摇摆式、计算机控制小工具式单面研磨抛光轨迹和行星式双面研磨抛光轨迹的数学函数及其轨迹均匀性,指出了当前轨迹研究中存在的不足。
2) uniform stitches
均匀线迹
4) mean orbital element
平均轨迹元
5) characteristic of trajectory
轨迹特性
1.
And local characteristic of trajectory have been put forward.
混合驱动五杆机构的轨迹特性体现它的柔性能力。
6) elastic locus
弹性轨迹
1.
The elastic component in a high speed mechanism makes the realistic locus (elastic locus) deviate form the prediced locus (rigid locus).
本文采用自制的光导传感器,在TLJ机构试验台上,首次测定连杆机构的弹性轨迹,并利用有限元程序(KEDL)计算出理论的弹性轨迹;实测与理论计算结果较为一致,还利用对实例的理论计算和实测结果,对TLJ机构的具体结构进行分析,提出若干影响因素及性能特征,为KED分析进一步实用化提供依据。
补充资料：迹线
见流线。
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参考词条