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1)  thermal vapor deposition method
热蒸发沉积法
2)  solvent evaporation-deposition method
溶剂蒸发-沉积法
1.
Study on preparation of nitrendipine solid dispersion using the solvent evaporation-deposition method;
溶剂蒸发-沉积法制备尼群地平固体分散体
3)  evaporation deposition
蒸发沉积
1.
Polyaniline films were deposited on the substrates of Si(100) and slides by using vacuum evaporation deposition method.
采用真空蒸发沉积法,以盐酸掺杂态和本征态聚苯胺粉末为原料,分别在Si(100)和载玻片上沉积了聚苯胺膜。
4)  thermal evaporation CVD
热蒸发气相化学沉积
5)  Co-evaporation deposition
共蒸发沉积
6)  evaporite deposition
蒸发盐沉积
补充资料:电解沉积法生产镉


电解沉积法生产镉
production of cadmium by electrowinning

d一anJ一e ehenjifo shengehon ge电解沉积法生产镐(produetion of cadmiumby eleetrowinning)从含福原料制得的纯净福电解液,经电解沉积生产金属镐的过程,为福生产方法之一。主要用于处理铜福渣,工艺流程如图。主要包括铜福渣硫酸浸出、锌粉置换沉淀海绵福、海绵福溶解造液、福电解沉积和福熔铸等过程。 铜锡渣硫酸浸出铜锡渣为湿法炼锌厂的副产物,含福2.5%一12%;此外,还含锌35%一60%、铜4%一17%、铁0.05%~2.0%和少量砷、锑、5102、钻、镍、佗、锢等杂质。在浸出前将其堆放在空气中氧化,可加速浸出过程,但同时也增加了铜的溶解损失,只宜用于处理含铜较低的铜锡渣。 铜锡渣的浸出使用硫酸或福电解及锌电解的废液,在机械或空气一机械搅拌槽(见浸出糟)中进行。将硫酸缓慢加入盛有铜福渣的浸出槽中,在保持含游离酸10一159/L的最高浸出酸度和353一363K温度下,浸出6一sh。当酸度降至5一49/L时加入软锰矿,在_二敏化锰铜锅渣硫酸公 福锭 电积法从铜锡渣生产锡工艺流程pHd.8一尔。时加氧化锌粉中和至pHS.2一5.4以除去浸出液中的铜,停止搅拌。浸出的主要反应为: Cd十ZH+一一(:dZ干一衬HZ Cd()斗一ZH十一一二二CdZ书十HZO Zn十ZH长一~之ZnZ千十H: Cu(〕升一ZH辛=一州二uZ十十H:O Cu洲十Cd一一气!dZ未一粉Cu除锌锅外,镍、钻、锢、铭等杂质也进入溶液。 锌粉置换沉派海绵锅净化除杂质后过滤所得的滤液,又重新加硫酸酸化至pH3一4,然后缓慢加入锌粉置换沉淀福,至溶液含锡小于10009/L时进行压滤所得海绵福含福60%~80%。 海绵锅溶解造液将海绵福和浓硫酸加入机械搅拌槽中进行溶解造液,在维持358一363K温度下溶解2一3h待溶液酸度降至。,5一19/I,,便加KMnO。氧化除铁。接着用石灰乳中和溶液至pHS.4使部分杂质水解而除去。然后再加入海绵镐使溶液pH降至3·8一4.。,置换除铜后便可送去过滤。所得滤液即为纯净的铜电解液,其主要成分(质量浓度尸/g·l‘)为: (二d Zn Fc(二。;八s斗S十, 200一250 20~30长0.05<口.‘)0‘)5<().(jol 锅电解沉积与锌电解沉积过程相似以铝板作阴极,用纯铅或铅银合金(含银99.99,Pt)<。.、。时,Z。<0.002,Cu<。.001,Fe<。.002;达一级品锅质量f
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