1) novel plasma immersion ion implantation and deposition
新型等离子浸没离子注入和沉积
1.
Diamond-like carbon (DLC) film was fabricated on NiTi alloys surface adopting novel plasma immersion ion implantation and deposition (PIIID) at room temperature, using C2H2 as plasma source.
采用新型等离子浸没离子注入和沉积(PIIID)法以C2H2为等离子源对NiTi合金进行表面改性。
2) plasma immersion ion implantation and deposition
等离子浸没离子注入和沉积
1.
Diamond-like carbon(DLC) films were fabricated on NiTi alloys using plasma immersion ion implantation and deposition(PIIID).
采用等离子浸没离子注入和沉积(PIIID)法以C2H2为等离子源对NiTi合金进行表面改性。
2.
Diamond-like carbon(DLC) coatings were fabricated by plasma immersion ion implantation and deposition(PIIID) using two different plasma sources such as C_2H_2 and graphite as plasma source to improve the corrosion resistance of the NiTi alloys.
采用等离子浸没离子注入和沉积(PIIID)法分别以C2H2和石墨为等离子源在NiTi合金表面形成DLC涂层来提高该合金的耐腐蚀性。
3) Metal plasma immersion ion implantation and deposition
金属等离子体浸没离子注入与沉积
4) Plasma Immersion Ion Implantation and deposition
等离子体浸没离子注入与沉积
1.
Using plasma immersion ion implantation and deposition (PIIID), Ti/DLC and W/DLC multilayer were synthesized on GCr15 and 2Cr13 steel.
本研究采用等离子体浸没离子注入与沉积(PIIID)技术在GCr15钢和2Cr13钢表面制备了Ti/DLC和W/DLC纳米多层薄膜,DLC、Ti和W层均通过PIIID技术中的阴极弧沉积方法来制备。
5) plasma immersion ion implantation and deposition(PIII&D)
等离子体浸没离子注入与沉积(PIII&D)
6) Plasma immersion ion implantation and deposition (PIII&D)
等离子体浸没离子注入与沉积(PⅢ&D)
补充资料：离子
| 离子 ion 带电荷的原子或原子团。带电荷的原子称其离子，如铁离子Fe3+、氯离子Cl-。带正电荷的离子称为阳离子，如Fe3+；带负电荷的离子称为阴离子，如Cl-。带正电荷的原子团常见于配离子（见配位化合物），如[Cu(NH3) 4]2+。带负电荷的原子团称为某根（离子），如  称为硫酸根（离子）。离子的大小用离子半径表示，它主要决定于离子所带电荷和离子本身的电子构型。离子的性质与其价态、半径和外层电子构型有关。 |
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参考词条