1) plasma immersion ion implantation And deposition
全方位离子注入与沉积
1.
Plasma immersion ion implantation and deposition (PIIID) has been developed rapidly in recent years, and commercial applications of the technique have been realized.
全方位离子注入与沉积(Plasma immersion ion implantation and deposition,PIIID)技术发展到现在,已经逐步走向工业化应用。
2.
In our research, plasma immersion ion implantation and deposition was utilized to improve their wear resistance.
本研究利用了全方位离子注入与沉积(PIII&D)技术来强化处理这些合金表面,采用离子注入+过渡层+耐磨损层的复合强化处理工艺,通过摩擦磨损试验来研究不同的过渡层结构和厚度对磨损性能的影响。
2) plasma source ion implantation
全方位离子注入
1.
Structure and tribology properties of diamond-like carbon films prepared by microwave electron cyclotron resonance plasma source ion implantation;
微波ECR全方位离子注入制备类金刚石碳膜的结构及摩擦学性能研究
3) ion implantation and deposition
离子注入和沉积
4) Nitrogen PSII
全方位氮离子注入
5) two-step plasma immersion ion implantation
两步全方位离子注入
1.
In this study, in consideration of surface properties and environmental elements, two-step plasma immersion ion implantation technique, thermal oxidation (TO) treatment, laser surface texturing (LST) treatment and LST-TO treatment were developed and applied for modification of Ti6A14V alloy.
本文从提高材料表面性能和改善摩擦条件两个角度出发，采用两步全方位离子注入技术、热氧化技术、表面图案化技术和表面图案化／热氧化协同改性技术对Ti6Al4V合金进行表面改性。
6) Metal plasma immersion ion implantation and deposition
金属等离子体浸没离子注入与沉积
补充资料：离子注入（ionimplantation）
离子注入（ionimplantation）
用离子加速器将各种离子注入半导体材料，从而改变半导体材料的电学、光学或其他物理性质的半导体工艺技术，称为离子注入技术。自从20世纪70年代以来离子注入技术在半导体器件制备工艺中获得了广泛应用，是半导体器件工艺的最主要技术之一。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条