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1)  fitful-sputtering
间歇溅射
1.
Results show that compared with continuous-sputtering mode,the fitful-sputtering mode improves the films’ quality,because the crystal plain spacings .
结果表明:与连续溅射相比,间歇溅射可以降低ZnO(002)的晶面间距,晶粒长大致密化,随着间歇时间的延长,薄膜的自优化程度增加;与连续冷却相比,分段冷却对ZnO薄膜的质量影响不大,但可将薄膜的冷却时间,从2。
2)  circle intermittent deposition
循环间歇溅射
1.
In this method,circle intermittent deposition is realized by periodical repetition of "deposition-nondeposition-annealing".
采用射频磁控溅射技术利用循环间歇溅射工艺,在Pt/Ti/SiO2/Si基片上制备出了镧钛酸铅(PLT)薄膜。
3)  sputtering time
溅射时间
1.
Influence of sputtering time on cyclic performance of Sn thin films as anodes of Li-ion battery
溅射时间对Sn薄膜负极材料循环性能的影响
2.
The experimental results indicate that the surface roughness of Al film prepared by DC sputtering is bigger than those of Al films prepared by RF sputtering,and the average granule diameter increases with long sputtering time and large sputtering power.
实验结果表明:溅射功率和溅射时间对铝膜表面粗糙度有影响,通过延长溅射时间或提高溅射功率可使膜的平均颗粒直径增大。
3.
With increasing the sputtering time,the structure of ZAO films changes from non crystalline structure to crystalline structure,and at the same time the intensity of(002) p.
结果表明:随溅射时间的增加,样品由非晶态向晶态转变,同时也出现(002)择优取向强弱的变化。
4)  intermittent jetting
间歇喷射
5)  intermit-tent air-jet
间歇射流
6)  ntermittent radiation
间歇辐射
1.
According to the characteristics of ARM attacking radar,an approach of counter-ARMby integrating maneuver with intermittent radiation was proposed,and its operational effectiveness was analyzed.
根据反辐射导弹攻击雷达的特点,提出了一种机动与间歇辐射相结合抗反辐射导弹的方法,并就这种方法抗反辐射导弹的效能进行了分析研究,最后进行了计算机仿真。
补充资料:磁控溅射
分子式:
CAS号:

性质:用一个环形永久磁体在乎板形靶上产生环形磁场,在磁场作用下,电子被约束在一个环状空间内,形成高密度的等离子环。在等离子环内,电子不断地使Ar原子变成Ar离子,Ar离子被加速后打向靶表面,把靶内的原子溅射出来,沉积在基片上形成薄膜。若靶材为导体,溅射电源可用直流或射频电源,如靶材是绝缘体,则必须用射频电源。用多源共溅射加后处理法可制备双面薄膜。将基片放置在靶中心线上,称为正轴溅射,基片放在靶轴线外;称为偏轴溅射。磁控溅射是广泛采用的制膜方法。

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参考词条