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1)  silicon nitride(Si_3N_4)
氮化硅(Si_3N_4)
2)  silicon nitride (Si_3N_4)
氮化硅(Si_3N_4)陶瓷
3)  Si-rich SiN
富硅氮化硅
4)  silicon nitride
氮化硅
1.
Preparation of silicon nitride powder by a direct nitridation process based on fluidization technology;
基于流态化技术硅粉直接氮化制备氮化硅粉
2.
High-temperature fatigue behavior in pre-cracked silicon nitride composites doped with ytterbium oxide;
Yb_2O_3掺杂氮化硅复合材料的高温动态疲劳行为
5)  Si3N4
氮化硅
1.
Machining Characters of HSWEDM Assisting Electrode Method Machining Insulated Ceramics Si3N4;
绝缘陶瓷氮化硅高速走丝线切割加工技术研究
2.
Experimental Research on ELID Precision Grinding of the Si3N4;
氮化硅材料的ELID精密磨削试验研究
3.
Si3N4 bonded SiC product was prepared by firing at 1?380?℃ for 5?h under nitrogen atmosphere with SiC,FeSi and Si powder as principal raw materials.
以碳化硅(SiC)、硅铁(FeSi)粉、硅(Si)粉为主要原料,在氮气气氛下1 380℃保温5 h制得氮化硅结合碳化硅制品,研究了硅铁粉加入量对试样常温力学性能的影响。
6)  SiON [英]['saiən]  [美]['saɪən]
氮氧化硅
1.
During SiON hard mask layer wet removing process after polysilicon etching,hot phosphoric acid(H3PO4) easily induces surface particle.
在集成电路制造工艺中,附着在Si片表面的杂质颗粒一直是影响晶圆良率的重大因素,其中在栅极多晶硅刻蚀后的氮氧化硅(SiON)掩膜层湿法去除工艺中,所使用的热磷酸(H3PO4)湿法刻蚀尤其容易产生杂质颗粒。
补充资料:硅(Si)
分子式:
分子量:
CAS号:

性质:周期系第Ⅳ族(碳族)元素。原子序数14。稳定同位素28,29,30。原子量28.0855。有无定形和晶体两种同素异形体。灰色和黑色。密度2.33。熔点1410℃。沸点2355℃。主要化合价+4。晶体硅硬而有光泽,具有半导体性质,又称准金属元素。硅的化学性质比较活泼。在高温时能与多种元素化合。不溶于水、硝酸和盐酸。溶于氢氟酸和碱液。用于制合金(如高硅铸铁、硅钠等)、有机硅化合物和四氯化硅等,是一种极重要的半导体材料。多晶体硅没有固定的晶向,制成单晶硅后,用于制大功率晶体管、整流器和太阳能电池等,比用单晶锗制成的更好。自然界中分布极广,地壳中约占27.72%。主要以二氧化硅和硅酸盐形态存在。由于丰度极大,所以把硅作为化学原料就具有特别意义。硅还存在于某些植物的茎、鸟的羽毛和动物的毛发中。无定形硅可用镁还原二氧化硅而制得。超纯度的硅为九个9至十个9(99.9999999%~99.99999999%),可在高温下用氢使四氯化硅或三氯氢硅还原或加热使碘化硅分解而制得。单晶硅是经区域熔炼法拉制的。有机氯硅烷颇有实用价值,因为可用它制备聚硅氧烷,广泛用于电绝缘、脱模剂、防水涂料、抛光剂、润滑剂、化妆品等方面。

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参考词条