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1)  double crystal diffraction
双晶衍射
1.
The development and application of the X-ray double crystal diffraction technology;
X射线双晶衍射技术的发展及应用
2.
Etching and 'double crystal diffraction' were used to measure the subsurface damage depth of double side grinding of 300 mm silicon wafer,and a deep research was done in etching.
本文应用恒定腐蚀法和双晶衍射法测量了300mm硅片双面磨削工艺后的损伤层厚度,对恒定腐蚀法进行了较深入的研究,并结合恒定腐蚀法的结果对硅片进行双晶衍射
3.
A GaAlInP double heterojunction structure, manufactured by MOCVD method, was measured and analyzed by double crystal diffraction system.
应用双晶衍射仪对MOCVD外延生长所得到的一个GaAlInP双异质结(DH)的单晶多层结构进行测试与分析。
2)  double crystal goniometer
双晶衍射仪
1.
A PC_401 computer system was introduced to the double crystal goniometer for small angle scattering measurement.
双晶衍射仪实行改造,用一台PC_401微机直接控制和进行小角散射等测量。
3)  Double crystal X ray diffraction
双晶X衍射
4)  double-crystal diffractometer
双晶衍射计
5)  X-ray double crystal diffraction
X射线双晶衍射
1.
Analysis of RTD structure is made with X-ray double crystal diffraction.
用分子束外延技术(MBE)生长了GaAs基共振隧穿二极管(RTD)的材料结构,利用X射线双晶衍射(XRD)方法对材料进行了测试分析。
2.
High quality InGaAs/GaAs quantum well (QW ) structure grown by molecular beam epitaxy (MBE) is characterized by X-ray double crystal diffraction.
用X射线双晶衍射方法对MBE方法生长的InGaAs/GaAs量子阱结构卡才料进行了测试分析。
3.
Analysis of DBR structure is made with X-ray double crystal diffraction.
 利用X射线双晶衍射方法,测定了分布布拉格反射镜(DBR)的衍射回摆曲线,除了DBR主衍射峰("0"级衍射峰)外,还观察到"1"级和"2"级卫星峰。
6)  DCXRD
X射线双晶衍射
1.
Elaborate Control of RTD s Nanometer Thin Layers & DCXRD Analysis;
RTD纳米薄层的精细控制及X射线双晶衍射测量
补充资料:X射线双晶衍射


X射线双晶衍射
X--ray double一erystal diffrae-tiofl

  进行的,所记录的衍射曲线叫作摇摆曲线。摇摆曲线的半高宽(FWHM)是和晶体的完整性密切相关的。晶体的完整性越高,半高宽就越小,反之则越大,这就是测量晶体完整性的依据。对于高完整性晶体硅(Si),其(333)衍射的半高宽只有2’’左右(对于CuKa辐射),对于砷化稼(GaAs)的(400)衍射有10,,左右,对于完整性较差的晶体,如蓝宝石可达40,,以上。而对于镶嵌晶体,如氟化钙还要大。 X射线双晶衍射的理论计算主要有运动学理论和动力学理论。运动学理论是经典理论,以布喇格的衍射理论为基础,其计算简单,物理图象清楚,仍普遍采用。它可以根据布喇格方程方便地计算出异质外延的晶格失配和组分,以及超晶格的结构参数。 动力学理论是以高木(S atio tagagi)方程为基础,在双光束近似的情况下,把X射线在晶体中的波场用布洛赫函数表示,从而导出一个向量偏微分方程。目前这个方程只有近似解,经计算模拟可以解出所需要的各种参数,它的计算比较繁琐,物理图象也不如运动学理论清楚。但是更易接近实验曲线,适用范围更宽。 (王玉田)X射线双晶衍射x--ray doubxe一erystal diffrae-tion利用单色化、平行化的X射线对晶体进行结构分析的一种高精度测量方法。 目前X射线源有两种:高压电子束激发的X射线源和同步辐射X射线源。二者均为多色光,其波长比紫外线还要短,且不带电,因而不可能利用一般的光学透镜或电磁透镜的聚焦方法改变光路,或以透镜滤光方法实现其单色化。 根据晶体对X射线衍射的布喇格方程 Zdh、,sins=刀凡式中流kl为晶体晶面(h寿l)的间距。夕为衍射角,刀为自然数,几为X射线波长。对于一个晶体,在一个特定的衍射角夕,将会出现一个特定波长几的X射线束。如果我们对此束X射线配置适当的狭缝,就会实现X射线的单色化和平行化。以此射线入射到待测晶体上,就构成了一个双晶衍射系统。根据不同的光源和需要,可以设计出各种各样的双晶衍射系统,还可以设计出三晶、四晶、五晶等系统。经过单色化的X射线并不是完全单色的,不仅X射线的特征辐射本身存在一个本征宽度,而且还会有刀儿的谐波存在(强度很弱)。 特点20世纪20年代X射线双晶衍射业已问世,但由于当时的晶体完整性较差,不可能获得高单色性、高平行度的X射线,也由于当时的科学技术水平限制,不可能进行高精度测量。50年代,高完整性的半导体单晶体出现以后,随着新型半导体器件发展的需要,X射线双晶衍射技术和理论有了新的发展,成为半导体材料和器件研究的重要测试方法。
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参考词条