1) ion nickelizing
离子渗镍
1.
Different process parameters were employed in this paper to experiment on ion nickelizing by double glow discharge.
采用不同的工艺参数对工业纯铁进行了离子渗镍试验。
2.
The ion nickelizing process in double cathode glow ion bombard furnace has been studied Comparing with the traditional nickelizing,the velocity is faster,the temperature is low,metal is saved and no pollution It has a good developing prospect for the surface modified technolog
研究了在改装后的双阴极辉光离子轰击炉中进行离子渗镍的工艺。
2) plasma Ni-Cr alloying
等离子镍铬共渗
3) Ni2+
镍离子
1.
Using Ni2++ as template,some novel adsorption resins, which have higher adsorption capacities for metallic ions,were synthesized by reacting chitosan with the crosslinking agent ethylene glycol bisglycidyl ether (EGBE),and their static adsorption capacity, kinetic, and isotherm for Ni2++ were investigated.
以镍离子为模板剂，合成了乙醇双环氧丙基醚交联的壳聚糖树脂，研究了其对Ｃｕ（Ⅱ）、Ｎｉ（Ⅱ）、Ｃｏ（Ⅱ）离子的吸附性能。
2.
The method was introduced that multi-ion in different locations instituted the Ni2++ to fabricate the Layered Doubled Hydroxide (LDH).
提出了多离子不同位置替代镍离子(利用晶格畸变互补性)来制备氢氧化镍电极材料的方法,并对Al3+、Zn2+的替代量、阴离子种类、活性剂的种类和反应温度进行了正交试验,得出了最佳的Al3+、Zn2+替代纳米氢氧化镍的制备工艺,获得电化学容量达316 mAh/g的电极材料。
3.
Objective To establish a new technology for removing Ni2++in raw medicine production of mannitol and sorbitol.
目的探讨原料药甘露醇和山梨醇生产中除镍离子的新工艺。
4) nickel ions
镍离子
1.
Removal of nickel ions by macromolecular complex enhanced ultrafiltration;
大分子络合超滤技术去除溶液中镍离子的研究
2.
The effect of nickel ions on structure and conductivity of DNA
镍离子对DNA结构和导电性的影响
3.
Adsorption of Nickel ions in wastewater on 13X-zeolite has been studied.
实验着重研究了合成 1 3X沸石分子筛吸附重金属离子中的镍离子。
5) Ni~(2+)
镍离子
1.
Influence of Ni~(2+)on Chemical Coloring of Stainless Steel;
镍离子对不锈钢化学着色的影响
2.
Effects of Ni~(2+) and Cr~(6+) on Vimentin of Testis in Adult Rats;
目的:探讨镍离子(Ni2+)、六价铬离子(Cr6+)联合染毒对睾丸曲细精管和间质区波形蛋白表达的影响。
6) nickel
[英]['nɪkl] [美]['nɪkḷ]
镍离子
1.
Bioaccumulation of nickel from aqueous solutions by genetically engineered Escherichia coli SE5000;
高选择性基因工程菌E.coli SE5000生物富集水体中的镍离子
2.
Effects of nickel ions out from Ni-Cr metal-ceramic alloy on glycolysis and ureolytic activity of Actinomyces naeslundii;
镍铬合金析出的镍离子对内氏放线菌糖代谢和尿素代谢的影响
3.
However, nickel ion, different from other heavy metal ions, is a more recalcitrant pollutant and has low affinity to many metal tolerant microorganisms.
利用通过基因工程技术所构建的在细胞内同时表达出高特异性镍转运蛋白和金属硫蛋白的基因工程菌富集水体中的镍离子。
补充资料：HF120真空离子渗碳(碳氮共渗)设备
一、设备特点：
1、加热室、过渡室、油淬室为立式结构（也可卧式）。
2、石墨碳棒加热，加热速度快，温度均匀，使用寿命。
3、脉冲偏压源，提供高稳定的强渗电源。
4、可实现气淬；油淬；真空退火；真空回火等多种工艺过程。
二、工艺特点：
1、渗碳温度可大幅度降低，实现渗碳温度与加热淬火温度一致，避免重复加热，节省能源，减小零件变形量。
2、不使用防渗剂，不渗的地方用铁板遮挡住即可，例：齿轮可先渗碳淬火再拉键槽。
3、对齿轮而言，渗碳优势明显，通过工艺控制可实现在节园部分渗层深齿根部分渗层略浅。
例如：对渗碳层深0.8mm以上。
真空离子渗碳：860℃~880℃保温2.5h+扩散0.5h淬火。
气体渗碳：930℃保温3h+扩散1h冷却，再加热至860℃淬火。
4、耗气量甚微，节能环保。
5、设备功率分别为：30/20；40/15；50/30；65/50；90/30。（电阻加热功率/辉光放电功率）。
6、工艺类型 等离子体渗碳或碳氮共渗的特点之一，是无忧机械电子在渗入的初期在工件表面就很容易建立高碳浓度，加上表面碳浓度随处理时间的延长而增加，所以必须采取渗碳加扩散的工艺（尤其对渗层较深的工件）。
7、设备示意图：
8、等离子体渗碳的原理
等离子体渗碳的原理与离子渗氮相似。工件渗碳时所需的活性碳原子或离子，不仅象常规气体渗碳一样利用热分解反应，而且还利用辉光放电时在阴极（工件）位降区中工作气体的电离而获得。以渗碳介质丙烷为例，它在等离子渗碳中的反应过程如下：
辉光放电
C3H8————————Cr+C2H6+H2
900～1000℃
辉光放电
C3H8————————Cr+CH4+H2
900～1000℃
辉光放电
C3H8————————Cr+ 2H2
900～1000℃
式中Cr 活性碳原子和离子
9、等离子渗碳的优点
⑴渗碳速度快
由于它是在真空中加热，并有高能离子的轰击，致使被处理件表面洁净与活化，再加上渗碳气体由于热分解与电离的双重作用，并在直流脉冲电场的作用下，使得工件表面附近的空间在短时间内就形成高的碳离子浓度区，从而加速了碳向工件的渗入与扩散，大大缩短渗碳时间。例如880℃，1h的离子渗碳就可获得0.6mm深的硬化层，同常规气体渗碳相比，可以缩短约50%的时间。
⑵渗层容易控制
由于工作气氛气压，放电电流密度、渗碳气体的流量及导入时间以及点燃辉光等都可以按需要预先设定并调节，因而能准确控制渗层。例如，通过调节放电电流密度值，就可以很容易控制表面碳浓度及硬化层深度。
1、加热室、过渡室、油淬室为立式结构（也可卧式）。
2、石墨碳棒加热，加热速度快，温度均匀，使用寿命。
3、脉冲偏压源，提供高稳定的强渗电源。
4、可实现气淬；油淬；真空退火；真空回火等多种工艺过程。
二、工艺特点：
1、渗碳温度可大幅度降低，实现渗碳温度与加热淬火温度一致，避免重复加热，节省能源，减小零件变形量。
2、不使用防渗剂，不渗的地方用铁板遮挡住即可，例：齿轮可先渗碳淬火再拉键槽。
3、对齿轮而言，渗碳优势明显，通过工艺控制可实现在节园部分渗层深齿根部分渗层略浅。
例如：对渗碳层深0.8mm以上。
真空离子渗碳：860℃~880℃保温2.5h+扩散0.5h淬火。
气体渗碳：930℃保温3h+扩散1h冷却，再加热至860℃淬火。
4、耗气量甚微，节能环保。
5、设备功率分别为：30/20；40/15；50/30；65/50；90/30。（电阻加热功率/辉光放电功率）。
6、工艺类型 等离子体渗碳或碳氮共渗的特点之一，是无忧机械电子在渗入的初期在工件表面就很容易建立高碳浓度，加上表面碳浓度随处理时间的延长而增加，所以必须采取渗碳加扩散的工艺（尤其对渗层较深的工件）。
7、设备示意图：
8、等离子体渗碳的原理
等离子体渗碳的原理与离子渗氮相似。工件渗碳时所需的活性碳原子或离子，不仅象常规气体渗碳一样利用热分解反应，而且还利用辉光放电时在阴极（工件）位降区中工作气体的电离而获得。以渗碳介质丙烷为例，它在等离子渗碳中的反应过程如下：
辉光放电
C3H8————————Cr+C2H6+H2
900～1000℃
辉光放电
C3H8————————Cr+CH4+H2
900～1000℃
辉光放电
C3H8————————Cr+ 2H2
900～1000℃
式中Cr 活性碳原子和离子
9、等离子渗碳的优点
⑴渗碳速度快
由于它是在真空中加热，并有高能离子的轰击，致使被处理件表面洁净与活化，再加上渗碳气体由于热分解与电离的双重作用，并在直流脉冲电场的作用下，使得工件表面附近的空间在短时间内就形成高的碳离子浓度区，从而加速了碳向工件的渗入与扩散，大大缩短渗碳时间。例如880℃，1h的离子渗碳就可获得0.6mm深的硬化层，同常规气体渗碳相比，可以缩短约50%的时间。
⑵渗层容易控制
由于工作气氛气压，放电电流密度、渗碳气体的流量及导入时间以及点燃辉光等都可以按需要预先设定并调节，因而能准确控制渗层。例如，通过调节放电电流密度值，就可以很容易控制表面碳浓度及硬化层深度。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条