2) pressure structure
耐压结构
1.
An application of hybrid GA and SM algorithm in optimal design of pressure structure;
基于遗传算法和可变多面体算法的耐压结构混合优化
2.
An experimental system for external pressure fatigue is the necessary equipment for fatigue performance studies of underwater pressure structures,such as deep sea vehicles,submarines and offshore installations,For the sake of promoting development of ocean exploitation and deep sea vehicle technology,CSSRC has designed and developed such a system in the light of economical and practical criteria.
外压疲劳试验系统是研究潜艇、深潜器、海洋工程、水下耐压结构物疲劳性能的必要系统。
3.
A new pressure structure is proposed to solve the contradiction between the diameter of the pressure structure and the height of the nuclear reactor through the vertical placement of the reactor cabin.
本文提出了一种新的耐压结构型式,通过将中部水平堆舱段垂直布置,解决耐压壳体直径与反应堆高度的矛盾。
4) salt tolerant structure
耐盐结构
1.
The character of salt tolerant structure in halophytes has been summarized in three aspects: roots, stems and leaves, so that more materials about microcosmic structure could be provided for the study of the halophytes.
从根、茎、叶三方面总结了盐生植物的耐盐结构特点,旨在为盐生植物的研究提供更多的植物体微观结构资料。
5) fireproof structure
耐火结构
6) aseismic structure
抗震结构
1.
Decision-making on optimal design of intensity for aseismic structures with three levels of fortification;
三级设防抗震结构最优设计烈度的决策
2.
A decision－ making method for the optimal fortification level of aseismic structures considering the importance;
考虑重要性时抗震结构最优设防水准的决策方法
3.
Intelligent optimum design of aseismic structures based on genetic algorithms;
基于遗传算法的抗震结构智能优化设计
补充资料：光敏耐腐蚀耐电镀印料
分子式：
CAS号：
性质：系指通过紫外光照射固化的一类抗蚀印料，分为:(1)耐腐蚀型，稀碱溶液去膜，能耐酸性腐蚀；溶剂去膜，能耐酸及碱腐蚀。(2)耐电镀抗蚀型，稀碱溶液去膜，耐酸性电镀液，溶剂去膜，耐弱碱性、酸性电镀液；(3)堵孔型印料，碱溶；(4)加强抗蚀型，去除型(耐化学镀铜)和永久覆盖型。由碱溶性感光高分子树脂、光敏引发剂、活性稀释剂、触变剂、流平剂、着色剂等组成。将上述组分在预混合器中进行搅拌混合，再经三辊机碾磨后配制成产品。无溶剂，无气味，不污染环境，很少有针孔。在印刷中黏度不变化，具有良好的丝网印刷性能。稀碱溶液去膜，能耐三氯化铁、氯化铜、过硫酸铵等酸性蚀刻，耐硫酸铜、铅锡合金及金银等酸性电镀液腐蚀。用于丝网图形蚀刻法和图形电镀法制造印制电路图形，也可用于化学蚀刻法制造精密的金属零件和图形。
CAS号：
性质：系指通过紫外光照射固化的一类抗蚀印料，分为:(1)耐腐蚀型，稀碱溶液去膜，能耐酸性腐蚀；溶剂去膜，能耐酸及碱腐蚀。(2)耐电镀抗蚀型，稀碱溶液去膜，耐酸性电镀液，溶剂去膜，耐弱碱性、酸性电镀液；(3)堵孔型印料，碱溶；(4)加强抗蚀型，去除型(耐化学镀铜)和永久覆盖型。由碱溶性感光高分子树脂、光敏引发剂、活性稀释剂、触变剂、流平剂、着色剂等组成。将上述组分在预混合器中进行搅拌混合，再经三辊机碾磨后配制成产品。无溶剂，无气味，不污染环境，很少有针孔。在印刷中黏度不变化，具有良好的丝网印刷性能。稀碱溶液去膜，能耐三氯化铁、氯化铜、过硫酸铵等酸性蚀刻，耐硫酸铜、铅锡合金及金银等酸性电镀液腐蚀。用于丝网图形蚀刻法和图形电镀法制造印制电路图形，也可用于化学蚀刻法制造精密的金属零件和图形。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条