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1)  High-k
高k
1.
Modeling of Gate Current and Capacitance for Nanoscale MOSFETs with High-k Stacks;
高k介质纳米MOSFET栅电流和电容模型
2.
Structural Characteristics of HfSiON High-k Dielectrics Films Grown by Radio Frequency Magnetron Sputtering;
射频磁控溅射法制备HfSiON高k薄膜的结构特性
3.
A quantum model based on solutions to the Schrdinger-Poisson equations is developed to investigate the device behavior related to gate tunneling current for nanoscale MOSFETs with high-k gate stacks.
介绍了一种纳米MOSFET(场效应管)栅电流的统一模型,该模型基于Schr dinger-Poisson方程自洽全量子数值解,特别适用于高k栅介质和多层高k栅介质纳米MOSFET。
2)  high-yield Monacolin K
高产Monacolin K
1.
The pigment of a Monascus mutation with high-yield Monacolin K was investigated.
对实验室保藏的一株高产Monacolin K红曲霉菌株的色素生产进行了研究,结果表明,该菌株发酵液的最大吸收峰在501nm和410nm处,与文献基本符合;色素生产的最适温度是30℃;在色素的合成中,选用葡萄糖或蔗糖作碳源较合适;硝酸盐对红色素的合成有很强的促进作用,铵盐有助于黄色素的合成;各种蛋白胨对色素的合成影响不显著。
3)  high K ratio method
高K比法
1.
A high K ratio method for fatigue precracking in welding position toughness specimen of thick steel plate was developed.
提出了预制厚钢板焊缝断裂韧度试样疲劳裂纹的“高K比法”。
4)  high k dielectric film
高k薄膜
5)  High K-value
高k值
6)  High-k dielectrics
高k介质
补充资料:(OC-6-11)-六氰合高铁酸(4-)铵
CAS:14481-29-9
分子式:C6FeN6·4H4N

中文名称:亚铁氰化铵;(OC-6-11)-六氰合高铁酸(4-)铵

英文名称:Ammonium ferrocyanide

hexakis(cyano-C)-, tetraammonium, (OC-6-11)-Ferrate(4-)

ammonium ferrocyanide [(nh4)4(fe(cn)6)]

ammonium hexacyanoferrate (ii)

hexacyano-ferrate(4- tetraammonium

tetraammonium, (oc-6-11)-ferrate(4-hexakis(cyano-c)-

tetraammonium hexacyanoferrate

triammonium hexakis-(cyano-c)ferrate(4-)
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参考词条