1) field assistant hot filament chemical vapor deposition
场助(或偏置増强)热丝化学气相沉积
2) bias enhanced nucleation hot filament chemical vapor deposition
偏压增强成核-热丝辅助化学气相沉积法
3) EA-HFCVD
电子辅助-热丝化学气相沉积法(EA-HFCVD)
4) RF HFCVD
射频等离子体增强热丝化学气相沉积
5) PE-HF-CVD
热丝射频等离子体增强化学气相沉积
6) hot filament chemical vapor deposition
热丝化学气相沉积
1.
Study of diamond film by direct current cathode-hot filament chemical vapor deposition;
直流等离子体-热丝化学气相沉积金刚石薄膜的研究
2.
Diamond films are deposited on tungsten carbide YG6 by hot filament chemical vapor deposition.
采用热丝化学气相沉积法在YG6硬质合金基体上制备出了金刚石薄膜,研究了基片与热丝间的距离以及负偏压对金刚石薄膜的生长取向和内应力的影响。
3.
The existed hot filament chemical vapor deposition(HFCVD) system is improved.
首先对热丝化学气相沉积(Chem ica l vapor depos ition,CVD)系统进行改造,设计了在真空室外对室内试样进行操纵的机械手系统和储料台,实现了一次热丝碳化后完成多个不同工艺条件下试样的连续沉积。
补充资料：等离子化学气相沉积
分子式：
CAS号：
性质：PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料，尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD，可在较低的温度下沉积，涂层均匀不剥落。
CAS号：
性质：PCVD 化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料，尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD，可在较低的温度下沉积，涂层均匀不剥落。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条