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1)  Electron-assisted chemical vapor deposition
电子助进化学气相沉积
2)  Electron assisted chemical vapor deposition
电子辅助化学气相沉积
3)  miniature EACVD(electron-assisted chemical vapor deposite) system
电子辅助化学气相沉积(EACVD)小型化系统
4)  EA-HFCVD
电子辅助-热丝化学气相沉积法(EA-HFCVD)
5)  EACVD
电子辅助化学气相淀积
1.
Hydrogen dissociation during the electron assisted chemical vapor deposition (EACVD) of diamond thin film is simulated by using the Monte Carlo method.
采用蒙特卡罗方法模拟了电子辅助化学气相淀积 (EACVD)金刚石薄膜中的氢分解过程 ,建立了电子碰撞使氢分解的模型 ,给出了电子能量分布及氢原子数的空间分布 ,讨论了电偏压和气压对氢分解的影响。
6)  RFGDPECVD
射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积
1.
Preparation technique and performances characterization of diamond-like carbon films by RFGDPECVD method
射频辉光放电等离子体辅助化学气相沉积法制备类金刚石碳膜工艺与性能表征
补充资料:等离子化学气相沉积
分子式:
CAS号:

性质:PCVD  化学气相沉积(CVD)法是制备无机材料,尤其是无机薄膜和涂层的一种重要手段。用等离子辅助CVD,可在较低的温度下沉积,涂层均匀不剥落。

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