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1)  TFDSOI
薄膜全耗尽SOI
2)  thick film fully depleted SOI
厚膜全耗尽SOI
3)  fully depleted SOI
全耗尽SOI
4)  fully depleted SOI-MOSFET
全耗尽SOI-MOSFET
1.
A novel approximation of the two-dimensional(2D)potential function perpendicular to the channel is proposed,and then an analytical threshold voltage model for a fully depleted SOI-MOSFET with a non-uniform Gaussian distribution doping profile is given based on this approximation.
对垂直于沟道的二维电势分布函数提出了一种新的近似,给出了基于这种近似的杂质浓度呈高斯分布的非均匀掺杂全耗尽SOI-MOSFET的阈值电压解析模型。
5)  fully depleted SOI MOSFETs
全耗尽SOI MOSFETs
6)  fully depleted CMOS/SOI technology
全耗尽CMOS/SOI工艺
补充资料:全自动过滤系统确保薄膜质量的稳定
在当今竞争激烈的市场中,稳定的高品质产品和低廉的生产成本越来越成为市场竞争生存的法则,在包装材料工业中尤其如此。除了需要考虑经济效益外,市场还要求薄膜等包装材料应该具有一些特殊的品质。这反过来又造成生产线越来越复杂,使其能够有效利用原材料的特性,确保产品能够满足用户要求。 薄膜的价格并非由生产设备的投资成本所决定,而主要由原材料的成本决定(假定挤出机生产线可以满负荷生产),因此,生产的中断会减少生产者的边际利润。 除了挤出机、模头和风环外,过滤系统对产品特性的影响日益重要。过滤系统的选择不仅由越来越多的工艺技术要求所决定,还造成生产工艺经济效益的差异。 非连续型过滤器 当用户使用绝对干净的原材料进行生产时,为了防止物料中不可避免的存在的杂质对下游设备造成不良影响,例如防止熔体齿轮泵受损和模头堵塞,造成长时间停工,通常在生产线上安装相对较为粗略的过滤设备,这种过滤设备的过滤效果较差,精度一般大于300um。 非连续型过滤器 这种过滤设备很粗略,它可以不进行任何形式的换网一直到生产线因其他原因而停工或中断。 目前,在实际生产应用中有几种不连续的过滤系统,它们的原理基本相同:滑板或活塞上具有二个过滤工位,操作者手动或通过液压传动更换滑板或活塞的过滤工位。上述切换只能在挤出生产线停止或物料通过量下降时才能执行,否则将影响薄膜的质量或造成薄膜撕裂。 非连续型过滤器HSprimus 由于过滤器是非连续操作方式,因此适用于更换滤网的时间间隔较长的生产中,过滤网的更换通常在生产计划停工或更改产品期间实施。 降低生产成本只能通过使用部分较为便宜的原材料替代全新料的方法来实现。 有一种所谓的连续式双活塞过滤器似乎比上述的非连续式过滤器先进。使用这种双活塞过滤器时,熔体流被分成两股,分别进入两个活塞进行过滤,当需要更换过滤网时,使熔体流强制只进入一个活塞中,更换完一个过滤网之后,按照同样方法更换另一个。这样,理论上,更换滤网时不必停止挤出机。但是,由于这种过滤器更换滤网时使熔体流合二为一,使得系统压力急剧增加;如果操作时间较长,如15-30分钟,压力升高引起温度升高,会造成熔体烧焦。此类物质进入熔体流中经常引起薄膜被撕裂,并使产品质量发生较大变化。由此可见,这种过滤方法并非真正的连续式,因为它使得产品质量不恒定。 全自动、工艺连续的过滤系统 RSFgenius 由德国格诺斯(Gneuss)塑料技术有限公司研制、开发的RSFgenius熔体过滤系统具有压力恒定、工艺连续、全自动等特点,经过多年生产实际应用证明,该过滤系统能够有效的保证薄膜质量稳定在极高水准,尤其对于高品质的薄膜更为如此。 RSF genius175的液压动力装置和控制系统 RSFgenius 过滤系统主要由3部分构成—一个输入模块,一个输出模块和一个在其中转动的过滤盘。这三部分之间的密封是通过非常小的间隙和非常平整、坚硬的表面实现的。 这种结构确保所有与熔体接触的部件都不会受到环境影响,如氧化。 几个滤网环形分别固定在过滤盘上,并跟随过滤盘的旋转通过熔体流道。当熔体流过滤网时,杂质粒子被阻挡于此,使得过滤系统前后压差略有增长,控制系统会对此压差增长做出反应,使过滤盘转动大约1°,因此,被污染的过滤网连续移出熔体流道,而且干净滤网连续移入。基于这种工作方式,过滤系统运行中压力保持恒定和工艺保持连续,而过滤器的压差变化最大为2bar。 对已使用过的过滤网(脏滤网)的清洗发生在其即将进入熔体流道前,过滤网上的脏饼通过一个高压逆清洗系统洗掉而重新干净。为达到此目的,已过滤过的干净熔体的一小部分在输出模块一端进入逆洗活塞内,由液压活塞从滤网背面以30-80bar高压射出,将脏物从滤网上冲洗掉,并从下部排出。
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参考词条