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1)  Sputtering yield energy distributions
溅射产额能量分布
2)  angular distribution of sputtering yields
溅射产额角分布
3)  Sputtering yield
溅射产额
1.
Calculation and analysis based on Sigmund s theory for sputtering yield;
基于Sigmund理论的溅射产额计算及分析
2.
Prediction of sputtering yields using the algorithm of neural networks;
用神经网络算法预测溅射镀膜时的溅射产额
3.
Large enhancement occurs in the measured Ag atom yield for FeCl + projectile in comparison with the sum of the sputtering yields for 56 Fe + and 35 Cl + bombardment at same impact velocities .
发现FeCl+轰击Ag的原子溅射产额与56Fe+和35Cl+轰击的溅射产额之和相比有大的增强。
4)  sputtering energy
溅射能量
1.
Influence of sputtering energy of Mo atoms on microstructure of Mo/Si thin film;
Mo原子溅射能量对Mo/Si薄膜微结构的影响
5)  relative sputtering yield
相对溅射产额
6)  mass yield distribution
质量产额分布
1.
The mass yield distribution was obtained with assumption of charge distribution.
根据电荷分布假设得到了靶余核的质量产额分布。
补充资料:反应碰撞能量分布
分子式:
CAS号:

性质:是所有碰撞的麦克斯韦—玻尔兹曼能量分布函数乘以激发函数的积,并以dNR/NdER对正作图即得反应碰撞的能量分布曲线Ⅱ(图暂缺)。I线是所有碰撞的能量分布曲线σR是激发函数的曲线。据阿累尼乌斯活化能定义dlnk/dT=Ea/RT2可得 ,即阿累尼乌斯活化能是引起反应的所有碰撞的平均能量与所有碰撞的平均能量的差值。

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