1) columnar defects
柱状缺陷
1.
Irradiation with 180 MeV Cu 11+ introduced the columnar defects, which act as strong and effective pinning center with a.
拟合结果与试验结果符合得较好 ,这表明辐照产生的柱状缺陷作为主要的钉扎中心 ,具有较高的钉扎能 ,且柱状缺陷在直径上与磁通涡旋有相近的尺寸 。
2) prismatic defect
棱柱缺陷
3) planar defect
面状缺陷
1.
Enhancement of an ultrasonic B scan image of planar defect;
面状缺陷超声B扫描检测图像增强研究
2.
Characteristic and recognition of ultrasonic TOFD signal and image for planar defect;
面状缺陷超声TOFD法信号和图像的特征与识别
4) spot like defects
斑状缺陷
5) needle_like defect
针状缺陷
6) haze defect
雾状缺陷
1.
The haze defect shows more serious status during the lithography process coming to 193 nm wavelength.
在光刻波长进入到193 nm之后,雾状缺陷(haze defect)越发严重,研究发现环境是雾状缺陷产生的重要原因。
补充资料:点缺陷(见晶体缺陷)
点缺陷(见晶体缺陷)
point defect
点缺陷point defeet见晶体缺陷。
说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
参考词条