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1)  Curing lights
固化光
2)  UV-curing
光固化
1.
Synthesis of Unsaturated Fluoro-Polyester Resins and Their UV-curing Properties;
含氟不饱和聚酯树脂的合成及其光固化性能研究
2.
Effect of initiator system on photosensitivity of polyurethane acrylate hybrid UV-curing system;
引发体系对聚氨酯丙烯酸酯混杂光固化体系感光性能的影响
3.
Preparation and characterization of EA/α-ZrP UV-cured nanocomposite via intra-gallery UV-curing polymerization
层间引发聚合法制备EA/-αZrP光固化纳米复合材料及其结构表征
3)  photocuring
光固化
1.
Vinyl Ether── A New Type of Reactive Diluents for Photocuring;
一种新型的光固化活性稀释剂──乙烯基醚
2.
Study on Synthesis, Photocuring and Thermal Degradable Property of Cycloaliphatic Diepoxides;
脂环族环氧树脂合成、光固化与热降解性能研究
3.
Moreover, the performance(wear resistance, surface hardness, adhesion and transparency) of the photocuring composite membrane was studied in detail.
利用合成的有机/二氧化钛纳米杂化材料与含硫环氧树脂复合进行紫外光固化反应,研究了这种固化膜的各种性能如耐磨性、表面硬度、附着力和透过率,并利用红外光谱和扫描电镜对固化机理和复合材料的相容性进行研究。
4)  UV-curing
UV光固化
5)  UV curing
光固化
1.
Development of UV curing composite material repair pre-patch;
光固化复合材料预浸料修理补片的研制
2.
Acrylated epoxy resin used for UV curing was synthesized by reaction of epoxy and acrylic acid.
以环氧树脂和丙烯酸为原料,合成了紫外光固化环氧丙烯酸树脂,研究了投料比、反应时间、引发剂、阻聚剂的加入量与加料方式对反应程度的影响。
3.
When the weight ratio of triethyleneglycol diacrylic ester (TEGDA) to polyurethane acrylate oligomer (PU) was 1∶2,the photosensitivity of the hybrid UV curing system composed of PU and epoxy compound EPON 812 was amplified and the value of photosensitivity was 15 2?J/m 2.
双官能度自由基型活性单体TEGDA在聚氨酯丙烯酸酯PU与环氧化合物EPON 81 2组成的混杂光固化体系中质量比为m(TEGDA)∶m(PU) =1∶2时 ,体系综合性能好 ,感度较高 ,感度值为 1 5 2J/m2 ,带有叔胺结构的活性稀释单体NVP的加入不利于提高混杂体系的感度 ,其感度值为 1 96 6J/m2 。
6)  stereolithography
光固化
1.
Energy control in vector scanning of stereolithography;
光固化向量扫描过程中的能量控制
2.
Study of the Distortion of Stereolithography Parts;
光固化零件的变形理论研究
3.
Key Techniques of High Precision Stereolithography System;
高精度光固化快速成形系统关键技术研究
补充资料:丙烯酸光固化清漆
分子式:
CAS号:

性质:以丙烯酸树脂为主要成膜物质的一类光固化清漆。由丙烯酸(酯)或丙烯酸酯齐聚物、低分子环氧树脂、光敏剂及活性稀释剂制得。该漆固化速度快,漆膜硬度高,广泛用于印刷业和电子工业及轻工业。

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参考词条