1) Positive-photoresist
邻叠氮萘醌型光致抗蚀剂
2) DNQ-PAC
邻叠氮萘醌光敏剂
3) diazonaphthoquinone
邻叠氮萘醌
4) diazonaphthoquinone photoresist
邻叠氮萘醌光刻胶
5) positive photoresist
正型光致抗蚀剂
1.
This paper focuses on the positive photoresist’s application performance influence that the graft matrix and 2,1,5-sulfonylchloride(2-azo-1-naphthoquinone-5-sulfonyl chloride)(NDQ),which are used for composing LCD positive photoresist sensitive resin(PAC).
本文研究了液晶显示器件(LCD)正型光致抗蚀剂用感光树脂(PAC)所需接枝母体和2,1,5-重氮萘醌磺酰氯(NDQ)对正型光致抗蚀剂应用性能的影响。
6) diazonaphthoquinone photoactive compounds
重氮萘醌感光剂
补充资料：邻叠氮萘醌光刻胶
分子式：
CAS号：
性质：常用的正性光刻胶。其主要成分有邻叠氮萘醌系化合物、碱溶性高分子类成膜剂(多采用线性酚醛树脂)、溶剂及其他添加剂。通常用弱碱水溶液作为显影液。曝光过程中，见光部分发生光化学反应，由碱不溶变成碱可溶，将溶于碱的见光部分洗去，留下碱不溶的未见光的部分而得到阳图浮雕像。这种材料得到的浮雕图像亲油性强，保存性好，故常用来制作印刷平版及预涂感光版(即PS版)。目前印刷中常用的阳图PS版都属此类感光材料。
CAS号：
性质：常用的正性光刻胶。其主要成分有邻叠氮萘醌系化合物、碱溶性高分子类成膜剂(多采用线性酚醛树脂)、溶剂及其他添加剂。通常用弱碱水溶液作为显影液。曝光过程中，见光部分发生光化学反应，由碱不溶变成碱可溶，将溶于碱的见光部分洗去，留下碱不溶的未见光的部分而得到阳图浮雕像。这种材料得到的浮雕图像亲油性强，保存性好，故常用来制作印刷平版及预涂感光版(即PS版)。目前印刷中常用的阳图PS版都属此类感光材料。
说明：补充资料仅用于学习参考，请勿用于其它任何用途。
参考词条